一种AMOLED显示器件及其子像素结构的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种AMOLED显示器件及其子像素结构的制备方法，通过在子像素的制备中变更共振腔调整层的金属掩膜版，以形成具有不同厚度共振腔调整层的子像素，进而在一个像素单元中增加淡蓝色子像素结构和橘色子像素结构，以形成包含纯蓝色子像素、纯红色子像素、纯绿色子像素、淡蓝色子像素和橘色子像素的像素单元，并在相邻的两个像素单元中共用相邻的两个子像素，进而形成AMOLED显示器件，以有效降低显示屏功耗，并同时还能维持AMOLED显示器件原有的高色彩饱和度。

【技术实现步骤摘要】
一种AMOLED显示器件及其子像素结构的制备方法
本专利技术涉及一种有机发光器件，尤其涉及一种AMOLED显示器件及其子像素结构的制备方法。
技术介绍
目前，低耗电及高色彩饱和度的显示屏为目前显示屏的发展趋势，AMOLED(ActiveMatrix/OrganicLightEmittingDiode，有源矩阵有机发光二极体面板)面板具有自发光能力的背光源和具备高色彩饱和度成为电显示屏发展项目之一。在AMOLED显示屏中,包括三种颜色OLED的器件，其中绿光OLED器件同时具备最高的发光效率及高色纯度,而红光OLED器件想得到高色纯度的红光,发光效率将发生大幅减少，同样的蓝光OLED器件,欲得到高色纯度的蓝光,发光效率将也发生大幅降低；然而淡蓝色OLED器件比起高色纯度蓝光OLED器件,发光效率将可大幅提升，同样橘色OLED器件，也比红光OLED器件，发光效率也可进一步提高，因此，在传统RGB像素排列中，增加淡蓝色及橘色子像素,藉由高效率的淡蓝色及橘色OLED器件协助发光，将可以有效降低显示屏功耗,并维持AMOLED显示屏原有的高色饱和度；中国专利(公开号：CN1667455A)公开了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种AMOLED显示器件，其特征在于，所述显示器件包括由若干个像素单元构成的像素阵列，且每个所述像素单元均由至少四个子像素构成，并通过调配所述子像素，使所述像素单元发出所需的光；其中，每个所述子像素中均设置有共振腔调整层，且任意一个所述子像素的共振腔调整层的厚度与其余子像素的共振腔调整层的厚度均不相同。

【技术特征摘要】
1.一种AMOLED显示器件，其特征在于，所述显示器件包括由若干个像素单元构成的像素阵列，且每个所述像素单元均由至少四个子像素构成，并通过调配所述子像素，使所述像素单元发出所需的光；其中，每个所述子像素中均设置有共振腔调整层，且任意一个所述子像素的共振腔调整层的厚度与其余子像素的共振腔调整层的厚度均不相同；所述子像素包括纯蓝色子像素、纯红色子像素、纯绿色子像素、淡蓝色子像素和橘色子像素；每个所述像素单元中，均以所述纯绿色子像素为中心，环绕该所述纯绿色子像素设置所述纯蓝色子像素、所述纯红色子像素、所述淡蓝色子像素和所述橘色子像素；其中，通过共用所述纯蓝色子像素、所述纯红色子像素、所述淡蓝色子像素和所述橘色子像素形成所述像素单元。2.如权利要求1所述的AMOLED显示器件，其特征在于，所述纯蓝色子像素、所述纯红色子像素、所述纯绿色子像素、所述淡蓝色子像素和所述橘色子像素按照瓦矩阵像素排列方式进行排列，形成所述像素阵列。3.如权利要求1所述的AMOLED显示器件，其特征在于，所述橘色子像素的共振腔调整层的厚度为160纳米～170纳米，所述淡蓝色子像素的共振腔调整层的厚度为100纳米～110纳米。4.如权利要求1所述的AMOLED显示器件，其特征在于，所述纯蓝色子像素的共振腔调整层的厚度为80纳米～90纳米，所述纯红色子像素的...

【专利技术属性】
技术研发人员：林信志，邹忠哲，张斌，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31