【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种确定用于测量待测量的量的测量装置的校准的校准时间间隔的方法。
技术介绍
测量装置在几乎所有工业分支中使用以用于测量物理量，特别是与进行中的生产过程相关的量。例如，指示由该装置测量的量的值的测量指示通常在过程自动化中使用以用于在测量地点监视、控制和/或调节生产过程。市场上存在各种测量装置，如例如用于测量容器中的产品的物位的物位测量装置、用于测量产品穿过管道的流动的流量计、温度测量装置或压力测量装置。为确保这些装置满足为其规定的特定测量性质，特别是规定的测量精度和/或符合特定标准，定期地将其重新校准。校准是用于建立用于从测量装置的测量指示获得所测量量的测量结果的关系的常用程序。此外，使用校准来检查装置对给定规范的合规性。在两种情况下，测量装置根据给定操作程序执行至少一个测量任务，在此期间通过对应参考或标准提供将通过该装置测量的量的至少一个给定值。典型的操作程序包括在装置的测量范围内对例如该量的最小值和最大值的测量。在操作程序期间，记录由参考或标准提供的量的值和测量装置的对应测量指示。基于此数据，计算对应的测量误差，在多数情况下将测量误差确定...
【技术保护点】
一种确定测量装置的校准的校准时间间隔的方法，所述测量装置用于测量待测的量，所述方法包括以下步骤：‑在第一校准时间(T1)执行所述装置的第一校准，其中，确定所述装置的第一测量误差(E1)，‑在所述第一测量误差(E1)超过包括零的预定误差范围(ER)的情况下，调整、修理或替换所述装置，并从头重新开始所述方法，‑在第二校准时间(T2)执行所述装置的第二校准，其中，确定所述装置的第二测量误差(E2)，‑在所述第二测量误差(E2)超过预定最大容许误差(MPE)的情况下，调整、修理或替换所述装置，并从头重新开始所述方法，‑确定是否发生了所述第一测量误差(E1)与所述第二测量误差(E2)...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.09 EP 11192727.31.一种确定测量装置的校准的校准时间间隔的方法，所述测量装置用于测量待测的量，所述方法包括以下步骤: -在第一校准时间(Tl)执行所述装置的第一校准，其中，确定所述装置的第一测量误差(El)， -在所述第一测量误差(El)超过包括零的预定误差范围(Ek)的情况下，调整、修理或替换所述装置，并从头重新开始所述方法， -在第二校准时间(T2)执行所述装置的第二校准，其中，确定所述装置的第二测量误差(E2)， -在所述第二测量误差(E2)超过预定最大容许误差(MPE)的情况下，调整、修理或替换所述装置，并从头重新开始所述方法， -确定是否发生了所述第一测量误差(El)与所述第二测量误差(E2)之间的显著漂移(D)，并且 -在发生了显著漂移(D)的情况下，确定应执行所述装置的第三校准的校准时间作为第三时间(T3)，所述第三时间(T3)早于或等于在给定的置信度(Y)的情况下、根据所述装置的测量误差(E)将超过所述最大容许误差(MPE)的越过时间(ts)的概率密度函数(H)Fts(ts))、所述装置的测量误差(E)将超过所述预定最大容许误差(MPE)的时间(Ts(Y)), 一所述概率密度函 数(roFK(ts))基于下述内容确定:所述第一测量误差(El)和所述第二测量误差(E2)、用于确定所述第一校准中仅由于所述第一校准所固有的校准不确定性而导致的测量误差(eMll)的概率密度函数(roFje^n))、用于确定所述第二校准中仅由于所述第二校准所固有的校准不确定性而导致的测量误差(eMl2)的概率密度函数(PDF2(eMl2))，以及所述第一校准时间(Tl)和所述第二校准时间(T2)。2.根据权利要求1所述的方法，其中， -把所述预定误差范围(Ek)设定为对应于依据所述第一校准工序能够执行所述校准的能力要求给定的所述第一校准工序的不确定性的上限(Umax)，或者 -所述预定误差范围(Ek)具有依据所述第一校准所固有的不确定性的负值(_UE1)给定的下限和依据所述第一校准所固有的不确定性的正值(+Uei)给定的上限，或者 一所述误差范围(Ek)具有等于所述最大容许误差(MPE)的上限(+MPE)的给定百分比(X%)的上限和等于所述最大容许误差(MPE)的下限(-MPE)的给定百分比(X%)的下限， -其中，所述最大容许误差的上限的百分比(X% (+MPE))大于或等于所述第一校准的不确定性的正值(+Uei)，并且小于所述最大容许误差(MPE)的上限(+MPE)，并且 一其中，所述最大容许误差的下限的百分比(X% (-MPE))小于或等于所述第一校准的不确定性的负值(_UE1)，并且大于所述最大容许误差(MPE)的下限(-MPE)。3.根据权利要求1所述的方法，其中，产生随机测量误差的统计代表数对((Ε1'，E2’))，每个数对包括: -第一随机测量误差(Ε1' )，所述第一随机测量误差(Ε1' )等于下述二者的和:所述第一测量误差(El)，以及根据用于确定校准期间仅由于所述第一校准工序所固有的不确定性导致的测量误差(θμ11)的概率密度函数(PDF1Gm11))所给定的概率分布产生的随机增量(e/ )，以及-第二随机测量误差(E2’)，所述第二随机测量误差(E2’ )等于下述二者的和:所述第二测量误差(E2)，以及根据用于确定校准期间仅由于所述第二校准工序所固有的不确定性导致的测量误差(θμ12)的概率密度函数O3DF2 (eMl2))所给定的概率分布产生的随机增量(e2，)。4.根据权利要求3所述的方法，包括以下步骤: -对每个数对(E1’，E2’)，确定在所述第一时间(Tl)经过所述第一随机测量误差(Ε1’)并且在所述第二时间(Τ2)经过所述第二随机测量误差(Ε2’ )的直线的斜率(m)， -基于所有所确定的斜率(m)和它们的发生频率，导出斜率(m)的概率密度函数O3DFm (m))， -在以下情况下，以给定的显著度(α)，确定发生的...
【专利技术属性】
技术研发人员：迪米特里·韦西埃，
申请(专利权)人：恩德莱斯和豪瑟尔美斯泰科两合公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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