【技术实现步骤摘要】
角度可调的喷嘴安装结构
本技术涉及一种角度可调的喷嘴安装结构，属于集成电路工艺清洗
。
技术介绍
在集成电路的制造过程中，光掩模是集成电路设计载体，且光掩模的质量决定半导体芯片的运行速度和可靠性。而清洗工艺是光掩模的制作过程中必不可缺少的工序，其清洗效果也会直接影响光掩模质量。目前最先进的清洗工艺是将光掩模放置于卡盘上，然后机械手抓住卡盘，并将其移动至翻转装置上，通过翻转装置将卡盘上的光掩模翻转，然后机械手再次抓住卡盘，并将其依次移动至各个不同的工艺腔内进行清洗，清洗完成后机械手抓住卡盘底部的把手，并将其送回翻转装置上，翻转装置再次将卡盘上的光掩模翻转，最后机械手抓住卡盘，并将其送回初始位置。光掩模在清洗的过程中，是将卡盘设置在处理舱内，通过设安装在处理舱上的多个喷嘴将所需的清洗液喷向光掩模。但于光掩板有多种不同尺寸和形状，为此需要经常调节喷嘴的方向才能满足不同尺寸光掩膜的清洗要求。目前的喷嘴是直接安装在处理舱上，使喷嘴角度其调节有限，因此不能满足喷嘴大角度的调节要求。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种结构简单，调节喷嘴角度范围大、操作方便，密封性能好的角度可调的喷嘴安装结构。本技术为达到上述目的的技术方案是:一种角度可调的喷嘴安装结构，包括内设有空腔的处理舱和沿处理舱周边设置至少两个喷嘴，其特征在于:所述的处理舱周边设有两个以上的压板槽，至少两个喷嘴压板通过紧固件安装在处理舱自各对应的压板槽处，设置在喷嘴压板上的至少一个喷嘴通过密封圈压接在处理舱的喷孔处。本技术将喷嘴设置在喷嘴压板上，而喷嘴压板通过紧固件安装有处理舱的压板槽处，通过...
【技术保护点】
一种角度可调的喷嘴安装结构，包括内设有空腔的处理舱（1）和沿处理舱（1）周边设置至少两个喷嘴（3），其特征在于：所述的处理舱（1）周边设有两个以上的压板槽（1‑1），至少两个喷嘴压板（2）通过紧固件（4）安装在处理舱（1）自各对应的压板槽（1‑1）处，设置在喷嘴压板（2）上的至少一个喷嘴（3）通过密封圈（5）压接在处理舱（1）的喷孔（1‑2）处。
【技术特征摘要】
1.一种角度可调的喷嘴安装结构，包括内设有空腔的处理舱(I)和沿处理舱(I)周边设置至少两个喷嘴(3)，其特征在于:所述的处理舱(I)周边设有两个以上的压板槽(1-1 )，至少两个喷嘴压板(2)通过紧固件(4)安装在处理舱(I)自各对应的压板槽(1-1)处，设置在喷嘴压板(2)上的至少一个喷嘴(3)通过密封圈(5)压接在处理舱(I)的喷孔(1-2)处。2.根据权利要求1所述的角度可调的喷嘴安装结构，其特征在于:所述的喷嘴压板(2)上...
【专利技术属性】
技术研发人员：乔忠德，金海涛，
申请(专利权)人：常州瑞择微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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