【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】产生低发射率层系统的方法和装置
本专利技术涉及一种根据权利要求1的前序的用于产生低发射率层系统，特别地对低发射率层系统进行回火的方法，以及一种根据权利要求11的前序的用于执行该方法的装置。
技术介绍
本专利技术涉及一种用在窗户和幕墙玻璃的绝热领域中的低发射率薄层例如银层的生产，特别是回火。特定的低发射率涂层，也简称为低e涂层，用于减少传热。低e涂层的特点在于，其具有低热发射率，并且此外涂层在可见光谱范围内大致为透明的。利用这种绝热涂层，一方面，其目的是为了确保太阳能辐射能够穿过窗格玻璃并且加热建筑物，同时在室温下仅少量的热从建筑物发射到环境。在另外的应用中，低e涂层意在防止从部侧朝向内部输入的能量输入。用于该目的的涂层包括例如透明的金属系统，特别地银基多层系统，其具有低发射率以及由此在红外光范围内的高反射，以及整个层系统在可见光谱范围内的高透射率。通常使用具有特定厚度的金属层使得它们仍具有所需透明度。例如，多达20nm厚的银仍被认为是透明的。为了区分，在IR范围内具有高反射的透明金属层通常被称作IR反射层。相比而言，玻璃和其它非金属基板材料通常在红外光谱范...
【技术保护点】
一种用于产生低发射率层系统的方法，所述方法包括以下步骤：利用沉积，在基板的至少一侧上形成至少一个透明金属IR反射层，其在下文中被称作低发射率层；以及随后利用电磁辐射对至少一个沉积层进行短暂回火，同时避免直接加热基板，其特征在于，对至少一个低发射率层进行短暂地回火，其中通过具有至少一个闪光灯，优选地多个闪光灯的闪光灯设备，利用至少一个闪光脉冲，来实现所述电磁辐射。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.08.19 DE 102011081281.4;2012.01.18 DE 10201221.一种用于产生低发射率层系统的方法，所述方法包括以下步骤:利用沉积，在基板的至少一侧上形成至少一个透明金属IR反射层，其在下文中被称作低发射率层；以及随后利用电磁辐射对至少一个沉积层进行短暂回火，同时避免直接加热基板，其特征在于，对至少一个低发射率层进行短暂地回火，其中通过具有至少一个闪光灯，优选地多个闪光灯的闪光灯设备，利用至少一个闪光脉冲，来实现所述电磁辐射。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，氙闪光灯用作所述闪光灯。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述闪光灯以大于4000A/cm2的电流密度操作。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的方法，其特征在于，所述闪光脉冲的持续时间被设定在0.05ms与20ms之间的范围内。5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，用于短暂回火的所述电磁辐射被设定为使得所述低发射率层在照射区域中接收可预定的能量输入。6.根据前述权...
【专利技术属性】
技术研发人员：哈拉尔德·格罗斯，乌多·维尔科芒，
申请(专利权)人：冯·阿德纳有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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