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本发明涉及一种用于产生低发射率层系统的方法，包括以下步骤：利用沉积，在基板的至少一侧上形成至少一个低发射率层；并且随后利用电磁辐射来对沉积低发射率层进行短暂回火，避免对基板进行直接加热，并且本发明还涉及一种用于执行该方法的装置，其解决了改进...
该专利属于冯·阿德纳有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过冯·阿德纳有限公司授权不得商用。

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