一种介质反射面天线的设计方法技术

本发明专利技术公开了一种介质反射面天线的设计方法，由一个馈源和多层平面介质板组成；阵面通过相位调制，将馈源发出的宽角域波束聚集反射形成窄波束，从而实现高增益；采用周期性主从边界条件建模仿真方法；分析了介电常数、磁导率、单元间距、工作频率和入射角度对介质板相位调制的影响，得到介质厚度变化时相应的相位调制曲线；采用多层介质板叠加的结构进行相位调制；采用渐变槽天线作为馈源。本发明专利技术采用空馈馈电方式，简化了天线的设计流程；由多层介质板叠加而成，没有任何金属贴片，减少了表面损耗，提高了天线效率。该天线结构简单，体积小、重量轻,有利于加工与安装,并且还具有损耗低、增益高、旁瓣低、频带宽的优点。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，由一个馈源和多层平面介质板组成；阵面通过相位调制，将馈源发出的宽角域波束聚集反射形成窄波束，从而实现高增益；采用周期性主从边界条件建模仿真方法；分析了介电常数、磁导率、单元间距、工作频率和入射角度对介质板相位调制的影响，得到介质厚度变化时相应的相位调制曲线；采用多层介质板叠加的结构进行相位调制；采用渐变槽天线作为馈源。本专利技术采用空馈馈电方式，简化了天线的设计流程；由多层介质板叠加而成，没有任何金属贴片，减少了表面损耗，提高了天线效率。该天线结构简单，体积小、重量轻,有利于加工与安装,并且还具有损耗低、增益高、旁瓣低、频带宽的优点。【专利说明】
本专利技术属于高增益天线
，尤其涉及。
技术介绍
现有的高增益天线主要有两种类型，一种是阵列天线，另一种是反射面天线。阵列天线是按照一定的幅度和相位进行分配的多个天线的组合，这种天线组合激励多个辐射单元，从而实现了较好的高增益。各辐射单元的激励幅度和相位由馈电网络控制。通常，天线信号的增益要求越高，所需的辐射单元数目就越多，这样就导致馈电网络越复杂。复杂的馈电网络一方面会增大电气设计和物理布局的难度，导致结构和重量方面的不利影响；另一方面，复杂的馈电损耗也会降低天线的效率。另一种高增益天线是反射面天线，这种天线分为空馈的抛物面天线和平面反射阵天线，这类天线能将由馈源发出的宽角域波束聚集反射形成窄波束，从而实现高增益。抛物面天线由于曲面的设计，使其体积过大、重量较重，加工和安装不容易，且抛物面天线噪声温度较高。平面反射阵无需复杂的波束形成网络以及昂贵的收发组件，馈电网络损耗小，传统的平面反射阵都是利用介质表面的金属微带贴片来实现相位的补偿与调制，目前大多数采用变尺寸单元与旋转单元来组阵，这类微带贴片会造成一定的损耗，并且对微带单元要求高，设计难度大，加工复杂。综上所述，现有的高增益天线虽然都可以实现较高的增益，但是其各自的缺点严重制约了其本身的推广发展。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提供，旨在解决现有的阵列天线存在的馈电网络复杂，馈电损耗大，天线效率低；反射面天线设计复杂，体积过大，重量较重，加工安装复杂；抛物面天线曲面设计复杂，噪声温度较高的问题。本专利技术实施例的介质反射面天线的设计方法，该介质反射面天线的设计方法包括:(I)采用周期性主从边界条件建模仿真方法，主从边界条件包括主边界和从边界两种边界条件，二者总是成对出现的，且主边界表面和从边界表面的形状、大小和方向必须完全相同，主边界表面和从边界表面上的电场存在一定的相位差，该相位差就是周期性结构相邻单元之间存在的相位差，因此可以用于模拟平面周期结构表面；(2)采用圆形介质板建立阵列单元模型，分析了介电常数、磁导率、单元间距、工作频率和入射角度对介质板相位调制的影响，得到介质厚度变化时相应的相位调制曲线，确定介质板的介电常数、磁导率、单元间距，保证圆形介质板工作在较宽频带，并且相位调制角度大于300° ；(3)采用多层介质板叠加建立反射面阵列，根据所需相位补偿角度，调整每层介质板的尺寸，通过介质板厚度的变化进行相位调制，完成平面介质反射面天线的设计，改变介质板的层数，分析其对天线性能的影响，为实物制作提供理论参考；(4)采用渐变槽天线作为馈源，馈源与反射面天线的中心频率一致，采用正馈方式将馈源置于反射阵正上方，保证中心对称结构，确定合适的焦径比，将馈源与天线阵列联合仿真，得到平面介质反射面天线的设计结果。在本专利技术的实施例中，在(I)中，周期性主从边界条件建模仿真，是以局部代替整体的仿真方法。进一步，使用局部代替整体的仿真方法，分别分析了介电常数、磁导率、工作频率、单元间距以及不同入射角度对介质反射面天线相位调制性能的影响，介质板底部为金属地结构，通过平面周期法得到了介电常数2.65，4.4和10.2三种介质的相位响应。进一步，在(2)中，分析了影响介质板相位调制的各种因素，考虑全面详细，为设计天线阵列提供理论基础。进一步，该介质反射面天线通过介质厚度的变化来控制相位，表面没有任何金属微带贴片结构，通过直接在地板上重叠多层介质板来实现。进一步，该介质反射面天线包括一个馈源和多层平面介质板。进一步，馈源采用渐变槽天线，介质反射面采用4层圆形介质板。本专利技术提供的介质反射面天线的设计方法，该介质反射面天线由一个馈源和多层平面介质板组成；阵面通过相位调制，将馈源发出的宽角域波束聚集反射形成窄波束，从而实现高增益；采用周期性主从边界条件建模仿真方法；分析了介电常数、磁导率、单元间距、工作频率和入射角度对介质板相位调制的影响，得到介质厚度变化时相应的相位调制曲线；采用多层介质板叠加的结构进行相位调制，替代了传统反射阵天线需依靠不同微带单元进行相位补偿；采用渐变槽天线作为馈源。本专利技术由于采取以上技术方案，其具有以下优点:1、与阵列天线比较，因为本专利技术所述天线只有一个馈电点，因此不需要复杂的馈电网络，简化了天线的设计流程。2、与反射面天线相比，本专利技术由多层介质板叠加而成，表面没有任何金属贴片，明显减少了表面损耗，提高了天线的效率。不需要设计复杂微带贴片单元，使得天线设计简单；与传统平面反射阵天线相比，该天线馈电简单、损耗低、增益高、且天线结构简单，有利于加工与安装。此外，本专利技术还具有旁瓣低、前后比高、频带宽、体积小、重量轻的优点。【专利附图】【附图说明】图1是本专利技术实施例提供的介质反射面天线的设计方法的流程图；图2是本专利技术实施例提供的反射面介质层与反射相位关系示意图；(a)波束在金属表面反射，(b)波束在有介质的金属表面穿过；图3是本专利技术实施例提供的使用主从边界来分析介质的相位曲线示意图；图4是本专利技术实施例提供的介质厚度变化时相应的相位曲线图；(a)不同的介电常数和不同磁导率，(b)不同的工作频率，(C)不同的单元间距，(d)不同的入射角度；图5是本专利技术实施例提供的不同层数的介质反射面天线示意图；图6是本专利技术实施例提供的不同反射面天线E面仿真方向示意图；图7是本专利技术实施例提供的4种反射面天线增益随频率变化曲线示意图；图8是本专利技术实施例提供的仿真和测试结果示意图；(&#面86取，(b)H 面 8GHz，(c)E 面 11.5GHz(d)H 面 11.5GHz，(e)E 面 14GHz, (f)H 面 14GHz ；图9是本专利技术实施例提供的测量增益和口径效率示意图。【具体实施方式】为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。下面结合附图及具体实施例对本专利技术的应用原理作进一步描述。如图1所示，本专利技术实施例的介质反射面天线的设计方法包括以下步骤:SlOl:采用周期性主从边界条件建模仿真方法；S102:分析了介电常数、磁导率、单元间距、工作频率和入射角度对介质板相位调制的影响，得到介质厚度变化时相应的相位调制曲线；S103:采用多层介质板叠加的结构进行相位调制；S104:采用渐变槽天线作为馈源。在步骤SlOl中，周期性主从边界条件建模仿真，是以局部代替整体的仿真方法；在步骤S102中，分析了影响介质板相位调制的各种因素，考虑全面详细，为设计天线阵提供理论本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种介质反射面天线的设计方法，其特征在于，该介质反射面天线的设计方法包括：(1)采用周期性主从边界条件建模仿真方法，主从边界条件包括主边界和从边界两种边界条件，二者总是成对出现的，且主边界表面和从边界表面的形状、大小和方向必须完全相同，主边界表面和从边界表面上的电场存在一定的相位差，该相位差就是周期性结构相邻单元之间存在的相位差，因此可以用于模拟平面周期结构表面；(2)采用圆形介质板建立阵列单元模型，分析了介电常数、磁导率、单元间距、工作频率和入射角度对介质板相位调制的影响，得到介质厚度变化时相应的相位调制曲线，确定介质板的介电常数、磁导率、单元间距，保证圆形介质板工作在较宽频带，并且相位调制角度大于300°；(3)采用多层介质板叠加建立反射面阵列，根据所需相位补偿角度，调整每层介质板的尺寸，通过介质板厚度的变化进行相位调制，完成平面介质反射面天线的设计，改变介质板的层数，分析其对天线性能的影响，为实物制作提供理论参考；(4)采用渐变槽天线作为馈源，馈源与反射面天线的中心频率一致，采用正馈方式将馈源置于反射阵正上方，保证中心对称结构，确定合适的焦径比，将馈源与天线阵列联合仿真，得到平面介质反射面天线的设计结果。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王超，陈蕾，刘淑芳，郭洧华，史小卫，
申请(专利权)人：西安电子科技大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61