一种用于光阻喷嘴的清洗槽体结构及其应用制造技术

一种用于光阻喷嘴的清洗槽体结构及其应用，包括清洗槽壳体、防清洗液飞溅腔、喷嘴清洗腔、清洗液排出口、清洗液管路、新增清洗液管路、氮气吹扫管路和负压抽气管路；清洗液沿清洗液管路和新增清洗液管路向喷嘴清洗腔内部偏下的方向冲洗喷嘴头部，使喷嘴头部得到全面的清洗；倾斜布置的氮气吹扫管路和负压抽气管路能减少清洗液飞溅到防清洗液飞溅腔的情况，并能防止清洗液或者最终清洗液残留在喷嘴清洗腔内。本发明专利技术的槽体结构及其应用既能保证喷嘴头部的清洗效果，也能避免污染物的残留，保证光阻喷嘴喷光阻时的质量不受影响。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于光阻喷嘴的清洗槽体结构，包括清洗槽壳体(5)、防清洗液飞溅腔(4)、喷嘴清洗腔(9)、清洗液排出口(8)、喷嘴根部(1)、喷嘴腰部(2)、喷嘴头部(3)、清洗液管路(7)、最终清洗喷嘴(6)，所述清洗液管路(7)穿过清洗槽壳体(5)，将清洗液导入到喷嘴清洗腔(9)内冲洗喷嘴头部(3)；清洗液冲洗喷嘴头部(3)后，从清洗液排出口(8)排出，所述最终清洗喷嘴(6)用于冲洗对喷嘴头部(3)清洗完毕之后的清洗液管路(7)出口处的残液；其特征在于，至少还包括一路新增清洗液管路(10)，清洗液管路(7)和新增清洗液管路(10)的出口在喷嘴清洗腔(9)的内壁沿水平圆周方向上均布；所述清洗液管路(7)和新增清洗液管路(10)与水平方向呈倾斜角度布置，清洗液沿清洗液管路(7)和新增清洗液管路(10)向喷嘴清洗腔(9)内部偏下的方向冲洗喷嘴头部(3)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：汪武平，毛智彪，杨正凯，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31