一种多孔四氧化三钴纳米带的制备方法技术

本发明专利技术属于无机纳米材料合成技术领域，本发明专利技术公开了一种多孔四氧化三钴纳米带的制备方法，所述方法的具体步骤如下：（1）首先将钴盐和沉淀剂溶于水中，形成混合溶液；（2）然后将混合溶液放入到水热釜中，在100～250℃下进行水热反应，反应时间是5～24h；（3）水热反应结束后，将反应产物进行分离、洗涤，然后将反应产物在350～800℃下焙烧得到多孔四氧化三钴纳米带。本发明专利技术实现了合成过程中无表面活性剂、无有机溶剂，为具有多级结构氧化铜材料提供了一条新的合成方法。本发明专利技术的制备工艺简洁，整个工艺过程在反应釜中进行，无需任何复杂设备，是一种简便高效、价格低廉、环境友好、易于规模化合成的制备四氧化三钴纳米带的制备方法。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种多孔四氧化三钴纳米带的制备方法，其特征在于：所述方法的具体步骤如下： （1）首先将钴盐和沉淀剂溶于水中，形成混合溶液，钴盐和沉淀剂的摩尔比为1:1～1:10； （2）然后将混合溶液放入到水热釜中，在100～250℃下进行水热反应，反应时间是5～24h； （3）水热反应结束后，将反应产物进行分离、洗涤，然后将反应产物在350～800℃下焙烧1～10h得到多孔四氧化三钴纳米带。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘爱凤，车红卫，
申请(专利权)人：河北工程大学，
类型：发明
国别省市：河北;13