清墨片和其清洁方法以及一叠包括清墨片的记录介质技术

这里公开的是一种适用于清洁记录装置的清墨片。其中，至少一个黏性区分布在一纸基的一个表面的局部上或整个这个表面上，纸基的另一个表面的粗糙度为按照ＪＩＳ Ｂ ０６０１在标准长度８ｍｍ上以十点平均粗糙度表示的１５μｍ～６０μｍ。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种适用于清洁记录装置的清墨片，其特征在于：至少一个黏性区分布在一纸基的一个表面局部上或整个这个表面上，纸基的另一表面具有按照ＪＩＳ Ｂ ０６０１在标准长度８ｍｍ上以十点平均粗糙度表示的１５μｍ－６０μｍ的表面粗糙度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：坂木守，片山正人，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]