【技术实现步骤摘要】
本公开一般而言涉及曝光，并且更具体地涉及曝光方法、曝光装置以及用于制造物品的方法。
技术介绍
1、半导体器件或液晶显示设备的制造过程使用曝光装置，该曝光装置通过照明光学系统对母盘进行照明，并经由投影光学系统将母盘的图案投影到基板上以对基板进行曝光。如果投影光学系统吸收曝光光并生成热量，那么像差出现。像差影响曝光处理的结果。
2、日本专利申请特许公开no.2014-103343讨论了一种用于预测由于曝光处理引起的像差并基于预测的结果确定是否执行下一次曝光处理的方法。
3、考虑到生产率，在像差出现的情况下，期望校正像差以迅速执行下一次曝光处理。而且，即使在对一个批次执行曝光处理时，像差也会改变。如果在批次的中间像差增加，那么分辨率性能会下降并且无法满足期望的质量。
技术实现思路
1、本公开一般而言针对提供一种能够在减少像差影响的状态下执行曝光处理的曝光方法，以及曝光装置和用于制造物品的方法。
2、根据一些实施例，一种曝光方法包括：预测在经由投影光学系统对多个基板执行曝光处理的曝光中投影光学系统的光学特性的改变，在曝光之前基于所述预测的预测结果调整光学特性，以及在所述调整之后执行曝光，其中，在所述调整中，基于所述预测中预测的光学特性的改变，在与光学特性改变的方向不同的方向上调整曝光开始时的光学特性。
3、通过以下参考附图对示例性实施例的描述，本公开的进一步的特征将变得清楚。
【技术保护点】
1.一种曝光方法，包括：
2.根据权利要求1所述的曝光方法，其中通过用光照射投影光学系统来在所述调整中调整光学特性。
3.根据权利要求2所述的曝光方法，其中通过用光照射一段时间来在所述调整中调整光学特性，所述时间是基于指示光学特性每单位时间的改变量的第二系数确定的。
4.根据权利要求2所述的曝光方法，其中在所述调整中用光的照射对投影光学系统而不是基板进行照明。
5.根据权利要求2所述的曝光方法，其中当构图的母版位于将不被光照明的位置时执行所述调整。
6.根据权利要求2所述的曝光方法，其中基于预测结果来切换在用光照射期间照明光学系统的光瞳平面上的光强度分布。
7.根据权利要求1所述的曝光方法，其中基于第一信息和第二信息来预测光学特性的改变，第一信息是用于预测曝光期间光学特性的改变的信息，并且第二信息是通过在曝光之前测量光学特性获得的信息。
8.根据权利要求7所述的曝光方法，其中与曝光处理条件相关联地存储第一信息，并且在与曝光处理条件相同的条件下执行曝光处理的情况下，使用第一信息来预测光学特性。>
9.根据权利要求7所述的曝光方法，其中第一信息包括与在所述预测中使用的预测方程中所包括的第一系数有关的信息。
10.根据权利要求9所述的曝光方法，其中第一系数是指示像差饱和量的值。
11.根据权利要求1所述的曝光方法，其中指示光学特性的改变的要素包括光学特性每单位时间的改变量和曝光处理期间光学特性的最大改变量中的一个或两者。
12.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，在所述调整中，调整光学特性，使得曝光处理期间光学特性的平均值是接近零(0)的值。
13.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，在所述调整中，将曝光开始时的光学特性朝着与在所述预测中预测的光学特性的改变的斜率的符号不同的符号调整。
14.根据权利要求1所述的曝光方法，其中光学特性是投影光学系统的像散。
15.根据权利要求1所述的曝光方法，其中在所述调整中对光学特性的调整将光学特性的值调整为正或负。
16.一种曝光方法，包括：
17.根据权利要求16所述的曝光方法，其中针对每个曝光处理条件设置所述预定范围。
18.根据权利要求16所述的曝光方法，其中在所述预测的预测结果指示光学特性落入所述预定范围内的情况下，不执行所述调整。
19.一种曝光装置，包括：
20.一种用于制造物品的方法，所述方法包括：
...【技术特征摘要】
1.一种曝光方法，包括：
2.根据权利要求1所述的曝光方法，其中通过用光照射投影光学系统来在所述调整中调整光学特性。
3.根据权利要求2所述的曝光方法，其中通过用光照射一段时间来在所述调整中调整光学特性，所述时间是基于指示光学特性每单位时间的改变量的第二系数确定的。
4.根据权利要求2所述的曝光方法，其中在所述调整中用光的照射对投影光学系统而不是基板进行照明。
5.根据权利要求2所述的曝光方法，其中当构图的母版位于将不被光照明的位置时执行所述调整。
6.根据权利要求2所述的曝光方法，其中基于预测结果来切换在用光照射期间照明光学系统的光瞳平面上的光强度分布。
7.根据权利要求1所述的曝光方法，其中基于第一信息和第二信息来预测光学特性的改变，第一信息是用于预测曝光期间光学特性的改变的信息，并且第二信息是通过在曝光之前测量光学特性获得的信息。
8.根据权利要求7所述的曝光方法，其中与曝光处理条件相关联地存储第一信息，并且在与曝光处理条件相同的条件下执行曝光处理的情况下，使用第一信息来预测光学特性。
9.根据权利要求7所述的曝光方法，其中第一信息包括与在所述预测中使用的预测方程中所包括的第一系数有关...
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