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本公开涉及曝光方法、曝光装置以及用于制造物品的方法。曝光方法包括：预测在经由投影光学系统对多个基板执行曝光处理的曝光中投影光学系统的光学特性的改变，在曝光之前基于所述预测的预测结果调整光学特性，以及在所述调整之后执行曝光，其中，在所述调整中...
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