记录介质辨别装置以及记录介质辨别方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及记录介质辨别装置以及记录介质辨别方法。其提供了能够简单且高精度地辨别记录介质的厚度的技术。记录介质辨别装置具备：光照射部（LS），其朝向记录介质（M）照射光；受光部（LD），其对从光照射部被照射的光在记录介质上被漫反射后的漫反射光进行受光；反射部（RP），其能够对从光照射部照射并透射过记录介质的透射光进行反射并使之再次入射到记录介质上；切换部，其对反射状态进行切换以使反射部成为不同的反射率；辨别部，其根据以不同的反射状态被反射部反射并由受光部受光的多个所述漫反射光的光量的比值，来对记录介质的厚度进行辨别。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对记录有图像的例如纸等的记录介质的厚度进行辨别的。
技术介绍
在于纸以及树脂薄膜等的记录介质上记录图像的技术中，例如为了使记录介质的处理对应于其特性而最佳化，从而存在需要对所使用的记录介质的厚度进行辨别的情况。作为在这种目的下能够使用的技术，例如如专利文献I以及2所述，存在欲以光学方式对记录介质的厚度进行测定的技术。在专利文献I所记载的技术中，通过将光照射到记录介质上，并利用厚度感应器(line sensor)来接受正反射光且检测出受光量成为最大的位置，从而根据距记录介质表面的距离来求取记录介质的厚度。此外，在专利文献2所记载的技术中，将光学传感器定位在其与记录介质之间的距离不同的两个部位处并进行对反射光的检测，且基于这些检测光量来求取记录介质的厚度。上述现有技术均是通过光学手法而直接对任意的记录介质的厚度进行检测，而在检测精度这一点上，还存在改善的余地。即，在专利文献I所记载的技术中，由于是根据反射光强度的峰值位置来求取记录介质的厚度，因此照射光的聚光性会对检测精度造成影响。此外，由于检测中需要厚度感应器，因此还存在成本升高的问题。此外，在专利文献2所记载的技术中，由于伴随有光学传感器的移动，因此存在其定位精度对检测精度造成影响的问题。专利文献I日本特开2006-168138号公报专利文献2日本特开2010-042646号公报
技术实现思路
本专利技术所涉及的几种形态解决了上述课题，并提供了能够简单且高精度地辨别记录介质的厚度的技术。本专利技术的一种形态为一种记录介质辨别装置，具备:光照射部，其朝向记录介质照射光；受光部，其对从所述光照射部被照射的光在所述记录介质上被漫反射后的漫反射光进行受光；反射部，其对从所述光照射部照射并透射过所述记录介质的透射光进行反射并使之再次入射到所述记录介质上；切换部，其对反射状态进行切换以使所述反射部成为不同的反射率；辨别部，其根据以不同的反射状态被所述反射部反射并由所述受光部受光的多个所述漫反射光的光量的比值，来对所述记录介质的厚度进行辨别。此外，本专利技术的其他形态为一种记录介质辨别方法，其中，朝向被支承的记录介质照射光，并根据以使透射过所述记录介质的透射光成为不同的反射率的方式而以不同的反射状态被反射并受光的多个所述漫反射光的光量的比值，来对所述记录介质的厚度进行辨别。在这些专利技术中，从照射光入射的一侧观察时的记录介质的背景在高反射状态与低反射状态之间被切换。所受光的漫反射光中，包括在记录介质处被反射的光、和透射过该记录介质并在其背景处被反射且相对于记录介质而再次入射以及出射的光。由于记录介质越厚，则透射过记录介质的光越减少，因此认为高反射状态下的反射光量与低反射状态下的反射光量之差将减小。本专利技术就是利用了这种原理的专利技术。虽然会在后文进行详细叙述，但根据本申请专利技术人的实验得知，在相同素材的记录介质中，低反射状态下的反射光量相对于高反射状态下的反射光量之比(以下，在本说明书中将此比称为“减光比”)的值，与记录介质的厚度之间具有显著的相关性。因此，如果求得该减光比，则能够估计出记录介质的厚度。如此，根据本专利技术，能够简单且高精度地对记录介质的厚度进行辨别。作为更具体的手法，例如能够采用如下方式，S卩，针对于记录介质的每个种类而预先求出该记录介质的厚度与减光比之间的相关性，并基于该信息而对记录介质的厚度进行辨别。如果采用这种方式，则能够对于多种记录介质中的每一种进行厚度的辨别。此外例如，也可以基于漫反射光中波长为650nm以上的波长成分的光量而对记录介质的厚度进行辨别。在作为一般记录介质的纸张和树脂薄膜中，即使在可见光之中也仅对波长比较长的成分表现出高透射性，而短波长成分则易于被吸收。因此，通过以这种方式使用可见光，从而将增大向记录介质的另一个主面侧透射的光的比例，进而使记录介质的厚度对所受光的反射光量的影响增大。即，由于相对于记录介质的厚度的、减光比的值的变化增大，因此能够使测定的动态量程扩大并使辨别精度提高。在本申请专利技术的见解中，优选使用漫反射光中波长为650nm以上的波长成分。在此，关于高反射状态与低反射状态之间的切换，例如能够采用如下方式，S卩，对反射部相对于对记录介质进行支承的支承部的距离进行变更。在使反射部接近于记录介质的状态下，透射的光将在反射部处被反射并再次入射到记录介质上，而在反射部被远离的状态下，来自反射部的反射光将减少。通过这种方式，从而能够简单地切换高反射状态与低反射状态。或者例如，也可以改变光照射部与反射部之间的相对位置关系。即，也可以通过使向记录介质的光的入射位置有所不同，从而实现高反射状态与低反射状态。能够通过使光照射到设置有反射部的位置上从而实现高反射状态，此外通过使光照射到不具有反射部的位置上从而实现低反射状态。此外例如，也可以还具备去除部，所述去除部对附着在反射部的与记录介质对置的对置面上的异物进行去除。例如，在纸粉这种异物附着在反射部上时，透射过记录介质的光的高反射状态下的反射率会发生变动，从而在基于受光量的减光比计算中将产生误差。通过设置这种用于去除异物的结构，从而能够防止因这种误差而导致的厚度的错误辨别。【附图说明】图1为用于说明本申请专利技术人所进行的实验的图。图2为表示记录介质的厚度与减光比之间的关系的图。图3为表示各种记录介质中的漫反射光的光谱分布的图。图4为表示使包含紫外光的光入射时的漫反射光的光谱分布的图。图5为表示本专利技术所涉及的辨别装置的具体结构的一个示例的图。图6为表示受光部的分光灵敏度特性的示例的图。图7为表示根据已知的反射数据而求出的二叉树的一个示例的图。图8为表示能够进行记录介质的辨别的波长成分的组合的图。图9为表示辨别装置的更具体的结构示例的侧剖视图。图10为表示由辨别装置实施的辨别处理动作的流程图。图11为表示本专利技术的其他实施方式的第一图。图12为表示本专利技术的其他实施方式的第二图。【具体实施方式】首先，对于成为本申请专利技术的基础的本申请专利技术人的见解以及基于此见解的本申请专利技术的原理进行说明。本申请专利技术人对于市场上流通着的多种记录介质，实施了对将光照射到该记录介质上时从记录介质出射的漫反射光的性质进行调查的实验，并获得了如下这种见解。图1为用于说明本申请专利技术人所实施的实验的图。如图1 (a)所示，将记录介质支承在压印板PL上，所述压印板PL上贯穿设置有贯穿孔H，且在该贯穿孔H中嵌入有高反射率的反射板RP，并且，从压印板PL的相反侧，自光源LS而朝向记录介质M的表面中面对贯穿孔H的位置照射了光。在与入射光Li在记录介质表面上的正反射光的光路上不同的位置处配置光检测器LD，并对来自记录介质M的漫反射光Ldl进行受光。此外，如图1 (b)所示，在拆下了反射板RP的状态下，同样地将光Li从光源LS入射到记录介质M上，并通过光检测器LD而对此时的漫反射光Ld2进行了检测。在图1 (a)所示的状态下，从记录介质M的一个主面(上表面)入射的光Li中的、透射过记录介质M并从被压印板PL所支承的另一个主面(下表面)出射的透射光，通过反射板RP而以高反射率被反射并再次入射到记录介质M上。S卩，在从记录介质M的上表面侧观察时，记录介质M的背景处于高反射状态。此时，再次入射到记录介质M上的光的一部分从记录介质M的上表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种记录介质辨别装置，其特征在于，具备：光照射部，其朝向记录介质照射光；受光部，其对从所述光照射部被照射的光在所述记录介质上被漫反射后的漫反射光进行受光；反射部，其能够对从所述光照射部照射并透射过所述记录介质的透射光进行反射并使之再次入射到所述记录介质上；切换部，其对反射状态进行切换以使所述反射部成为不同的反射率；辨别部，其根据以不同的反射状态而被所述反射部反射并由所述受光部受光的多个所述漫反射光的光量的比值，来对所述记录介质的厚度进行辨别。

【技术特征摘要】
2013.01.07 JP 2013-000372;2013.12.26 JP 2013-268711.一种记录介质辨别装置，其特征在于，具备: 光照射部，其朝向记录介质照射光； 受光部，其对从所述光照射部被照射的光在所述记录介质上被漫反射后的漫反射光进行受光； 反射部，其能够对从所述光照射部照射并透射过所述记录介质的透射光进行反射并使之再次入射到所述记录介质上； 切换部，其对反射状态进行切换以使所述反射部成为不同的反射率； 辨别部，其根据以不同的反射状态而被所述反射部反射并由所述受光部受光的多个所述漫反射光的光量的比值，来对所述记录介质的厚度进行辨别。2.如权利要求1所述的记录介质辨别装置，其中， 所述辨别部根据按照记录介质的每个种类而被预先求出的、与该记录介质的厚度和所述漫反射光的光量之间的比值的相关性有关的信息，来对所述记录介...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤恒延，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP