半导体制冷器及半导体制冷装置制造方法及图纸

技术编号:10185872 阅读:155 留言:0更新日期:2014-07-04 17:04
本实用新型专利技术提供一种半导体制冷器及半导体制冷装置。该半导体制冷器包括:第一基板、第二基板,以及设置在第一基板和第二基板之间的至少两个半导体电偶;还包括:设置在第一基板和第二基板之间的侧墙,侧墙围绕在至少两个半导体电偶外围;所述侧墙包括固定连接在所述第一基板和第二基板之间的胶粘层,以及位于第一基板和第二基板之间的、且固定连接于胶粘层内侧的增强层,增强层的导热系数低于胶粘层。本实用新型专利技术的半导体制冷器,避免了外界潮湿空气等进入到半导体电偶周围产生原电池效应;而且,还可以减少由侧墙引起的第一基板与第二基板间热量损失,有效改善侧墙漏热现象,改善了半导体制冷器的制冷或制热效果,并有利于延长使用寿命。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种半导体制冷器及半导体制冷装置。该半导体制冷器包括:第一基板、第二基板,以及设置在第一基板和第二基板之间的至少两个半导体电偶;还包括:设置在第一基板和第二基板之间的侧墙,侧墙围绕在至少两个半导体电偶外围;所述侧墙包括固定连接在所述第一基板和第二基板之间的胶粘层,以及位于第一基板和第二基板之间的、且固定连接于胶粘层内侧的增强层,增强层的导热系数低于胶粘层。本技术的半导体制冷器,避免了外界潮湿空气等进入到半导体电偶周围产生原电池效应;而且,还可以减少由侧墙引起的第一基板与第二基板间热量损失,有效改善侧墙漏热现象,改善了半导体制冷器的制冷或制热效果,并有利于延长使用寿命。【专利说明】半导体制冷器及半导体制冷装置
本技术涉及半导体制冷技术,尤其涉及一种半导体制冷器及半导体制冷装置。
技术介绍
半导体制冷器是利用半导体材料的珀尔帖效应制成的、可以产生制冷、或制热作用的芯片。图1为现有技术中的一种半导体制冷器的结构示意图;图2为图1中A-A向剖视图;如图1和图2所示,现有技术中的半导体制冷器包括相对设置的第一基板11、第二基板12,以及设置在第一基板11和第二基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体制冷器,包括:第一基板、第二基板,以及设置在所述第一基板和第二基板之间的至少两个半导体电偶;其特征在于,还包括:设置在所述第一基板和第二基板之间的侧墙,所述侧墙围绕在所述至少两个半导体电偶外围;所述侧墙包括固定连接在所述第一基板和第二基板之间的胶粘层,以及位于所述第一基板和第二基板之间的、且固定连接于所述胶粘层内侧的增强层,所述增强层的导热系数低于所述胶粘层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:高俊岭罗嘉恒关庆乐孔小凤
申请(专利权)人:广东富信科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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