一种场发射平面光源及其制造方法技术

本发明专利技术适用于光学技术领域，提供了一种场发射平面光源及其制造方法，光源包括相对设置的阴极板和阳极板，以及支撑于所述阴极板和阳极板之间的多个隔离体，在所述阴极板面向所述阳极板的一面设有发射层，在所述阳极板面向所述阴极板的一面设有发光层，所述隔离体与所述阳极板或阴极板为一体结构。本发明专利技术提供的场发射平面光源的隔离体与阳极板或阴极板为一体结构，避免了隔离体在阴、阳极板之间滑动，增强了阴、阳极板结构的稳定性，并避免了隔离体与阴、阳极板间作用力不均而导致极板破碎的问题，有效改善了场发射平面光源的工作稳定性和使用寿命；并且，与传统的采用墙状隔离体的光源结构相比，也避免了暗区的形成，增大了光源亮度和均匀度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学
，特别涉及一种场发射平面光源及其制造方法，具体涉及一种能够改良场发射平面光源器件工作稳定性的结构设计。
技术介绍
场发射光源是场发射研究的重要应用之一，场发射光源既可以当做显示器件的背光源，也可以用在照明领域中。场发射的基本原理是：具有一定功函数及表面势垒的材料，当无外加电场时，表面势垒的宽度无限，高度与真空能级相当；但对其施加一个比较强的电场后，材料表面的势垒的宽度变窄，高度降低，由于隧道效应，这时内部电子很容易从材料表面发射出来，形成场致电子发射。如图1，场发射器件通常包括带有发射极11的阴极基板1、涂覆发光层21的阳极基板2和支撑体3。阴极基板1和阳极基板2相对设置并保持一定的间隔，由支撑体3隔离，四周封接，形成一真空空腔。阴极基板1的发射极11在外加电场的作用下形成场致电子发射，发出的电子轰击阳极基板2的发光层21使其发光。传统的支撑体之一为球状隔离体，是将预先制好的多个球形陶瓷或玻璃微珠直接放置在器件的阴极基板和阳极基板间作为支撑。这种结构简单，制作工艺也较简单，但球状隔离体的直径误差很难控制在要求范围内，而且由于热应力及真空与外加压强差所产生的压力，易使基板变形，此时隔离体容易滑动，使得基板和支撑体之间承受的压力不均衡，不利于器件工作的稳定性，且基板容易破碎，从而缩短器件的寿命。传统的支撑体之二为条形的墙状隔离体，是预先按需要厚度加工好陶瓷或者玻璃隔离体，然后将其安置在阴、阳基板之间，形成支撑效果，但是墙状隔离体由于表面面积比较大，当作大面积场发射平面光源的隔离体容易形成暗区，影响光源的出光效果。传统的支撑体之三为柱状隔离体，是将预先制好的多个柱形陶瓷或玻璃体直接放置在器件阴、阳基板之间作为支撑。这种方法虽然工艺也较简单，但柱状隔离体也容易发生移动，从而使得基板和支撑体之间承受的压力不均衡，基板容易破碎，从而降低器件的稳定性以及缩短器件的寿命；并且，柱状隔离体的侧面是直线，爬电距离比较短，容易发生电荷积累甚至发生击穿现象，同样影响器件工作的稳定性及使用寿命。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种场发射平面光源，通过改变基板间隔离体的结构来提高场发射平面光源的工作稳定性，延长光源的使用寿命。本专利技术是这样实现的，一种场发射平面光源，包括相对设置的阴极板和阳极板，以及支撑于所述阴极板和阳极板之间的多个隔离体，在所述阴极板面向所述阳极板的一面设有发射层，在所述阳极板面向所述阴极板的一面设有发光层，所述隔离体与所述阳极板或阴极板为一体结构。本专利技术的另一目的在于提供一种场发射平面光源的制造方法，包括下述步骤：获取阴极板，并对所述阴极板进行清洗和烘干处理；在所述阴极板的一表面设置发射层；获取阳极板，并在所述阳极板的一表面上形成多个与所述阳极板连结为一体的隔离体；对所述阳极板进行清洗及烘干处理；在所述阳极板设有隔离体的表面上除隔离体以外的区域设置发光层；将所述阴极板和阳极板封接，并使所述发射层与发光层相对。本专利技术的再一目的在于提供另一种场发射平面光源的制造方法，包括下述步骤：获取阳极板，并对所述阳极板进行清洗和烘干处理；在所述阳极板的一表面设置发光层；获取阴极板，并在所述阴极板的一表面上形成多个与所述阴极板连结为一体的隔离体；对所述阴极板进行清洗及烘干处理；在所述阴极板设有隔离体的表面上除隔离体以外的区域设置发射层；将所述阴极板和阳极板封接，并使所述发射层与发光层相对。本专利技术提供的场发射平面光源的隔离体与阳极板或阴极板为一体结构，避免了隔离体在阴、阳极板之间滑动，增强了阴、阳极板结构的稳定性，并避免了隔离体与阴、阳极板间作用力不均而导致极板破碎的问题，有效改善了场发射平面光源的工作稳定性和使用寿命；并且，与传统的采用墙状隔离体的光源结构相比，也避免了暗区的形成，增大了光源亮度和均匀度。本专利技术提供的制造方法有效的解决了场发射光源工作性能不稳定及使用寿命短的问题，并且便于实施，亦不会造成较大的成本增加，适合广泛采用。附图说明图1是现有场发射平面光源的剖视图；图2是本专利技术第一实施例提供的场发射平面光源的剖视图；图3是本专利技术第一实施例提供的场发射平面光源的正视图；图4是本专利技术第一实施例提供的场发射平面光源的制作流程图；图5是本专利技术第二实施例提供的场发射平面光源的剖视图；图6是本专利技术第二实施例提供的场发射平面光源的制作流程图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。以下结合具体实施例对本专利技术的具体实现进行更加详细的描述：实施例一：图2示出了本专利技术第一实施例提供的场发射平面光源的剖视图，图3示出了该场发射平面光源的正视图，为了便于说明，仅示出了与本实施例相关的部分。参考图2、3，该场发射平面光源主要包括相对设置的阴极板1和阳极板2，阴极板1和阳极板2通常相互平行，在阴、阳极板的相对表面上分别设有发射层11和发光层21，即在阴极板1面向阳极板2的一面设有发射层11，在阳极板2面向阴极板1的一面设有发光层21。另外，在阴极板1和阳极板2之间设有多个隔离体3，形成了隔离体阵列，用于支撑和隔离阴极板1和阳极板2，每个隔离体3均与阳极板2为一体结构，即隔离体3的一端与阳极板2连结为一体，另一端则与阴极板1通过贴合或粘结等连接方式实现面接触。可以理解，本实施例中的阳极板2和阴极板1均包括作为衬底的基板和电极层（图中未示），通过电极层与外部供电线路相连而对阳极板2和阴极板1施加电压，形成电场，进而使光源发光，此为本领域公知的技术，本实施例不再赘述。该场发射平面光源的工作原理如下：通过对阴、阳极板施加电压，使阴、阳极板间形成足够强的电场，使阴极板1表面的发射层11发出电子束，电子束轰击阳极板2上的发光层21，激发发光层21的材料发光。作为一种实现方式，发射层11可以是涂覆在阴极板1表面的纳米线薄膜，发光层21可以是荧光粉等可受电子激发而发光的材料，发射层11和发光层21的具体材料可根据实际所需的出光波长确定，本实施例不进行限定。本实施例提供的场发射平面光源的隔离体3与阳极板2为一体结构，使隔离体3在阴、阳极板之间的位置得以固定，不会发生滑动，与传统的支撑体独立设置于阴、阳极板之间的结构相比，避免了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种场发射平面光源，其特征在于，包括相对设置的阴极板和阳极板，以及支撑于所述阴极板和阳极板之间的多个隔离体，在所述阴极板面向所述阳极板的一面设有发射层，在所述阳极板面向所述阴极板的一面设有发光层，所述隔离体与所述阳极板或阴极板为一体结构。

【技术特征摘要】
1.一种场发射平面光源，其特征在于，包括相对设置的阴极板和阳极板，
以及支撑于所述阴极板和阳极板之间的多个隔离体，在所述阴极板面向所述阳
极板的一面设有发射层，在所述阳极板面向所述阴极板的一面设有发光层，所
述隔离体与所述阳极板或阴极板为一体结构。
2.如权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述隔离体为球状
隔离体。
3.如权利要求2所述的场发射平面光源，其特征在于，所述隔离体的高度
为2mm；所述多个隔离体形成矩形的隔离体阵列，所述隔离体阵列的最小矩形
单元的边长为2cm。
4.如权利要求3所述的场发射平面光源，其特征在于，所述隔离体与所述
阴极板为一体结构，所述隔离体与所述阳极板相接触的区域是直径为1mm的圆
面。
5.如权利要求3所述的场发射平面光源，其特征在于，所述隔离体与所述
阳极板为一体结构，所述隔离体与所述阴极板相接触的区域是直径为1mm的圆
面。
6.如权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述发射层为纳米
线薄膜。
7.一种场发射平面光源的制造方法，其特征在于，包括下述步骤：
获取阴极板，并对所述阴极板进行清洗和烘干处理；
在所述阴极板的...

【专利技术属性】
技术研发人员：周明杰，吴康锋，陈贵堂，
申请(专利权)人：海洋王照明科技股份有限公司，深圳市海洋王照明技术有限公司，深圳市海洋王照明工程有限公司，
类型：发明
国别省市：