金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片制造技术

技术编号:10036921 阅读:202 留言:0更新日期:2014-05-11 02:12
本实用新型专利技术涉及一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片。目前,普遍使用的光纤结构衰减片包括中间的纤芯,以及外部依次包裹的包层、涂覆层和保护层,这种结构增加了制作和使用成本,体积大。需要制作体积小、重量轻、精确度高、稳定可靠、使用方便是人们对光衰减器的基本要求的光衰减片。一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,其组成包括:二氧化硅基片(1),所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜(2),所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。本实用新型专利技术应用于光衰减片。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片。目前,普遍使用的光纤结构衰减片包括中间的纤芯,以及外部依次包裹的包层、涂覆层和保护层,这种结构增加了制作和使用成本,体积大。需要制作体积小、重量轻、精确度高、稳定可靠、使用方便是人们对光衰减器的基本要求的光衰减片。一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,其组成包括:二氧化硅基片(1),所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜(2),所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。本技术应用于光衰减片。【专利说明】金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片
:本技术涉及一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片。
技术介绍
:光纤通信系统中,光衰减器(Optical Attenuator, 0A)是发展最早的无源器件之一。随着宽带光纤通信网络,特别是全光网络的快速发展,各国都投入大量的人力与物力研制性能更高的光衰减器。目前,普遍使用的光纤结构包括中间的纤芯,以及外部依次包裹的包层、涂覆层和保护层,这种结构增加了制作和使用成本,体积大。需要制作体积小、重量轻、精确度高、稳定可靠、使用方便是人们对光衰减器的基本要求的光衰减片。
技术实现思路
:本技术的目的是提供一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片。上述的目的通过以下的技术方案实现:—种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,其组成包括:二氧化硅基片,所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜,所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。所述的金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,所述的金属膜为铝膜时,其表面的粗糙度Ra值为4.076nm ;所述的金属膜为铜膜时,其表面的粗糙度Ra值为3.950nm ;所述的金属膜为铬膜时,其表面的粗糙度Ra值为7.076nm。本技术的有益效果:本技术的结构简单,在二氧化硅玻璃基片表面蒸镀金属薄膜,因为真空蒸镀金属铝、铜、铬得到薄膜为微米级,蒸镀金属薄膜堆积的颗粒为纳米颗粒,所以其在二氧化硅表面的分布均匀、排列致密、连续性好,得到的蒸镀金属镀膜的光衰减片的透光率在0.06-0.01之间,具有良好的光衰减效果。【专利附图】【附图说明】:附图1是本技术的结构示意图。【具体实施方式】:实施例1:一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,其组成包括:二氧化硅基片1,所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜2,所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。实施例2:根据实施例1所述的金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,所述的金属膜为铝膜时,其表面的粗糙度Ra值为4.076nm ;所述的金属膜为铜膜时,其表面的粗糙度Ra值为3.950nm ;所述的金属膜为铬膜时,其表面的粗糙度Ra值为7.076nm。实施例3:根据实施例1或2所述的金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,采用真空蒸发镀膜法制备金属/镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,首先,利用电阻式蒸发源DM-300B型真空镀膜机,保持真空度在1.3X10-2Pa以上,轰击电压为150V-210V,旋转电压为30V-50V,烘烤电压为100V-160V的条件下进行真空蒸镀。其次,完成真空度与源基距的确定:在室温!* = 29&Τ ,气体分子直径<J=3jxlO_scm时,由气体分子动力学得气体分子平均自由程I,可表示为:【权利要求】1.一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,其组成包括:二氧化硅基片,其特征是:所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜,所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。2.根据权利要求1所述的金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,其特征是:所述的金属膜为铝膜时,其表面的粗糙度Ra值为4.076nm ;所述的金属膜为铜膜时,其表面的粗糙度Ra值为3.950nm ;所述的金属膜为铬膜时,其表面的粗糙度Ra值为7.076nm。【文档编号】G02B6/26GK203587834SQ201320776953【公开日】2014年5月7日 申请日期:2013年12月2日 优先权日:2013年12月2日 【专利技术者】汤卉, 李磊, 张剑峰 申请人:哈尔滨理工大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,其组成包括:二氧化硅基片,其特征是:所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜,所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:汤卉李磊张剑峰
申请(专利权)人:哈尔滨理工大学
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1