—种H-ZSM-20分子筛的制备方法技术

技术编号:10014440 阅读:164 留言:0更新日期:2014-05-08 08:25
本发明专利技术涉及一种ZSM-20分子筛的制备方法,其特征在于按SiO2:Al2O3:NaF:Na2O:15-Crown-5:18-Crown-6:H2O=2~10:1.0:0.5~1:1~2.4:0.0~0.5:0.0~0.5:10~100的摩尔比配制胶体溶液。具体步骤包括:将氢氧化钠、卤素盐、铝酸盐溶于水,磁力搅拌10min中制备A溶液;将30%二氧化硅溶胶慢慢滴加到A溶液中,搅拌30min,然后缓慢加入模板剂,继续搅拌3h得胶状液,室温下静置24h;将上述胶状液转移至水热合成反应釜中,在100~170℃下晶化10~20d,冷却、过滤、洗涤、干燥、研磨,经程序升温至450~600℃下焙烧3~10h去除模板剂,得分子筛ZSM-20。ZSM-20用0.1~2.0mol/L硝酸铵溶液进行离子交换2~8h后,重复交换2~3次;经过滤、洗涤、干燥、焙烧后得H-ZSM-20。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种ZSM-20分子筛的制备方法,其特征在于按SiO2:Al2O3:NaF:Na2O:15-Crown-5:18-Crown-6:H2O=2~10:1.0:0.5~1:1~2.4:0.0~0.5:0.0~0.5:10~100的摩尔比配制胶体溶液。具体步骤包括:将氢氧化钠、卤素盐、铝酸盐溶于水,磁力搅拌10min中制备A溶液;将30%二氧化硅溶胶慢慢滴加到A溶液中,搅拌30min,然后缓慢加入模板剂,继续搅拌3h得胶状液,室温下静置24h;将上述胶状液转移至水热合成反应釜中,在100~170℃下晶化10~20d,冷却、过滤、洗涤、干燥、研磨,经程序升温至450~600℃下焙烧3~10h去除模板剂,得分子筛ZSM-20。ZSM-20用0.1~2.0mol/L硝酸铵溶液进行离子交换2~8h后,重复交换2~3次;经过滤、洗涤、干燥、焙烧后得H-ZSM-20。【专利说明】一种H-ZSM-20分子筛的制备方法
本专利技术涉及一种H-ZSM-20分子筛的制备方法,更确切地说涉及一种具有三维十二元环网状交叉均一孔道、FAU和EMT共生分子筛的、高活性热稳定性的ZSM本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:邱俊柳杰赵国清刘立业陈帅
申请(专利权)人:吉林化工学院
类型:发明
国别省市:

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