株式会社真空全部专利技术

株式会社真空全部共有1项专利

  • 涉及摆式控制阀,设置在工艺腔室与真空泵之间的气体排出通路,用于开闭所述气体排出通路,其特征在于,包括:阀本体(110),在上部设置有与所述气体排出通路相连通的气体流入口(111),在下部设置有与所述真空泵相连通的气体排出口(113);罩...
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