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株式会社日立高新技术专利技术
株式会社日立高新技术共有2188项专利
自动分析装置及自动分析方法制造方法及图纸
本发明的目的是提供一种自动分析装置,即使存在无法计算凝固时间的制备检体的情况下,也能够通过交叉混合测试来进行判定。本发明的自动分析装置包括:检体分注机构;试剂分注机构;测量部;分析动作控制部,其用于控制所述检体分注机构、所述试剂分注机构...
数据解析方法、数据解析系统以及计算机技术方案
本发明提供一种在进行测定数据从回归线的背离判别等的情况下,能够提高精度等,能够进行异常检测的技术。数据解析方法具有:第一步骤,计算机系统从多个自动分析系统的每一个取得包含装置信息、试剂信息及测定数据的反应过程数据作为参考数据;第二步骤,...
电泳装置制造方法及图纸
本发明提供一种电泳装置,即使在毛细管的外径可能变化的情况下,也不需要重新调整激励光的光轴和毛细管阵列的位置,为此,包括:试料的电泳所使用的毛细管排列成平面状的毛细管阵列;沿着所述毛细管的排列方向照射激励光的激励光源;测定由所述毛细管阵列...
自动分析装置及其控制方法制造方法及图纸
本发明提供一种能够抑制按顺序吸引了空气和液体的分注探头上升时的漏液的自动分析装置及其控制方法。分析检体的自动分析装置具备:分注部,其分注所述检体和/或试剂;以及控制部,其控制所述分注部,所述控制部在所述分注部所具有的分注探头按顺序吸引了...
自动分析装置制造方法及图纸
本发明提供一种自动分析装置,其能不受装置的规模影响地获得充分的反应过程数据且能确保装置结构的自由度。自动分析装置(100)具备:反应盘(1),其圆周状地存放多个反应容器(2);向反应容器(2)分注试样的试样分注机构(11);向反应容器(...
部件异常检测系统、自动分析装置以及部件异常检测方法制造方法及图纸
本申请提供一种部件异常检测系统,其检测对自动分析装置的用于试样检查的传感器吸入并排出液体的液体输送系统的部件的异常,所述部件异常检测系统具有:存储装置,其存储上述传感器输出的电信号的数据;处理装置,其对记录于上述存储装置的数据进行处理,...
质量分析装置以及质量分析装置的RF调谐方法制造方法及图纸
本发明提供一种质量分析装置,在对电极的施加电压存在异常时,能够容易地进行原因部位的区分。在具备四极电极和生成施加于四极电极的高频电压的电源电路(200)的质量分析装置中,电源电路(200)具备模拟乘法器(205),在RF调谐模式下,反馈...
自动分析装置以及自动分析方法制造方法及图纸
具备:在第一分析工序和第二分析工序中共同地使用一个以上的共同分析单元;以及控制共同分析单元的动作的控制部(3),能够在每个第一循环时间反复实施第一分析工序,能够在每个第二循环时间反复实施第二分析工序,第二循环时间由第一循环时间的正整数倍...
自动分析装置制造方法及图纸
本发明的目的在于提供一种能够在抑制成本的增加或单元尺寸的大型化的同时自动补充试剂的自动分析装置。为此,本发明的自动分析装置包括收纳液体的第一容器被投入的投入部、分析试料的分析单元以及将所述第一容器从所述投入部向所述分析单元传送的传送线,...
防止蒸发机构、检体保管机构以及检体保管输送装置制造方法及图纸
提供一种防止蒸发机构,其不会发生携带污染,抑制检体保管时的蒸发。因此,对容纳检体的圆筒状的检体容器(3)进行收纳的防止蒸发机构(12)具有:筒型形状的收纳容器(101),其连接上侧开口与下侧开口;盖(104),其覆盖上侧开口;密封部件(...
粒子束治疗系统及其扩充方法技术方案
本发明提供提高了扩充性的粒子束治疗系统。粒子束治疗系统(1)具备:具有第一楼层(51)和第二楼层(53S、53V)的建筑物;设于第一楼层并产生粒子束的粒子束产生装置(2);用于从粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束的第一...
等离子处理装置制造方法及图纸
提供一种使真空容器内部的排气流导提高、使稳定的等离子形成形成的等离子处理装置。等离子处理装置在真空容器外部配置多个驱动致动器,用多根臂连接驱动致动器和样品台底面的外周部。通过利用驱动致动器进行的臂的上下驱动来上下驱动样品台。为了供电等目...
控制用通信系统以及等离子处理装置制造方法及图纸
提供一种通信性能以及存储区域等计算机资源、通信资源的利用效率优异的控制用通信系统以及等离子处理装置。为此,控制用通信系统具备:控制用通信装置,具有发送包括控制用数据的分组的通信部,通信部构成为具有多个端口;以及多个设备群,能够通信地与多...
传送装置及传送方法制造方法及图纸
传送装置(100)包括:包含芯体(105)及绕组(106)的线圈(107)、向绕组(106)提供电流的驱动部(108)、对流过绕组(106)的电流值进行检测的电流检测部(109)、以及对托架(102)的位置进行运算的控制部(110),控...
电解质浓度测定装置及选择系数获取方法制造方法及图纸
本公开不需要用于计算干扰离子的选择系数的专用的样品,获取干扰离子的选择系数或与干扰离子的浓度对应的值。本公开是一种用于测定液体中含有的对象离子的离子浓度的电解质浓度测定装置(100),包括:提供液体的离子选择电极(111~113);成为...
蚀刻方法技术
提供防止蚀刻时的氧化硅膜部分的形状的劣化且相对于氧化硅膜以高的选择比高精度蚀刻氮化硅膜的方法。蚀刻方法对预先形成在配置于处理室内的晶片上的、氮化硅膜被氧化硅膜上下夹着而层叠的膜层的端部构成槽或孔的侧壁的膜构造在对所述处理室内供给处理用的...
保持件及带电粒子束装置制造方法及图纸
本发明提供可高精度地得到成为观察对象的试样的亮视场像或暗视场像的保持件。保持件(HL)具有上部件(HLt)、侧部件(HLs)以及底部件(HLb)。上部件(HLt)具有用于使带电粒子束穿过的孔(TH1),而且能够在孔(TH1)内搭载试样。...
输送装置以及输送方法制造方法及图纸
输送装置具备:线圈(107),其包含铁芯(105)和绕组(106);电流检测部(109),其检测在线圈(107)的绕组(106)中流过的电流;驱动部(108),其向线圈(107)供给电压;以及控制部(110),控制部(110)根据由于电...
保持件及带电粒子束装置制造方法及图纸
本发明提供可高精度地得到成为观察对象的试样的亮视场像或暗视场像的保持件。保持件(HL)具有上部件(HLt)、侧部件(HLs)以及底部件(HLb)。上部件(HLt)具有用于使带电粒子束穿过的孔(TH1),而且能够在孔(TH1)内搭载试样。...
等离子处理方法技术
本发明提供等离子处理方法,为了能独立控制相同晶片内的图案的疏的部分和密的部分的蚀刻形状并不依赖于图案的疏密地进行均质的蚀刻处理,特征在于,具有使用成为锥形形状的气体进行反应性离子蚀刻的第一工序和进行自由基蚀刻的第二工序,将第一工序和第二...
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