本发明涉及离子注入贵金属的钨基材料、稀土钨基材料及其制作方法，属于钨材料技术领域。其中，钨基材料包括钨基材和贵金属注入层；而稀土钨基材料包括稀土钨基材和贵金属注入层；制作时，将钨基材或稀土钨基材作为待加工基材置于等离子体源离子注入设备中...