本发明属于高分子材料领域，公开了一种感光性聚合物及其制备方法和应用。该感光性聚合物，包含下列结构单元：(1A)：具有至少一个能够通过酸水解产生酸性基团的结构单元；(1B)：具有至少一个烯烃、乙烯基醚或(甲基)丙烯酸酯能够通过作用力配对的...

本发明公开了一种含金属元素的感光性聚合物、组合物及其应用，所述感光性聚合物中至少包含以下结构单元：1)能够产生酸性基团的结构单元；2)含有金属离子的结构单元；3)具有鎓盐基团的结构单元，所述结构单元1)、2)、3)的摩尔比为(1～95)...

本发明涉及一种感光性聚合物及其制备方法和用途。具体地，本发明公开了一种感光性聚合物、含所述感光性聚合物的感光性树脂组合物，所述感光性树脂在化学放大型光刻胶，特别是浸没式光刻胶中的应用。

本发明公开了一种能够得到90nm以下Trench及Hole图形的光刻胶及其制备方法与应用，所述化合物包含下述结构单元中的至少两种：(a1)：具有通过水解而产生酸性基团的结构单元；(a2)：能形成刚性主链的结构单元；(a3)：具有环状基团...

本发明公开了一种能够用于90～60nm半导体制程的ArF光刻胶及其制备方法与应用，所述感光性聚合物中含有至少一个能够通过酸水解产生酸性基团的结构单元(a1)和至少一个具有环状基团的结构单元(a2)。所述结构单元(a1)的摩尔占比优选为2...

本发明公开了最高分辨率为5nm含酰胺基团含氟嵌段的纳米复合材料的制备及在DSA光刻领域的应用，构成所述纳米复合材料的嵌段聚合物的制备原料包括第一单体和第二单体，所述第一单体包括至少一种(甲基)丙烯酸酯类化合物；所述第二单体包括至少一种可...

本发明公开了一种低扩散ArF光刻胶用高分子光敏剂PAG及其应用，所述高分子光敏剂PAG由能够光照产酸的化合物和光敏树脂单体聚合而成，所述光敏树脂单体包括含脂环烷烃的(甲基)丙烯酸酯类化合物单体、含内酯结构的(甲基)丙烯酸酯类化合物单体和...

本发明公开了一种焦深DOF大于或等于300nm的半导体ArF光刻胶树脂及其应用，所述树脂包括含有脂环烷烃的丙烯酸酯类化合物、含有脂环烷烃的甲基丙烯酸酯类化合物、含内酯结构的丙烯酸酯类化合物和/或含有内酯结构的甲基丙烯酸酯类化合物结构单元...

本发明公开了一种新型高宽比大于三的半导体光刻用抗刻蚀树脂组合物及其应用，所述树脂组合物制得的光刻胶线条高宽比大于3，所述树脂组合物包括至少一种含有苯乙烯、苯乙烯的衍生物、含有脂环烷烃的丙烯酸酯类化合物和/或含有内酯结构的丙烯酸酯类化合物...

本发明公开了一种EUV光刻胶及其制备方法与应用，包括聚合物、光产酸剂、淬灭剂、含氟表面活性剂和溶剂，所述聚合物的主链中含有A、B或C三种结构单元中的一种或一种以上：