本实用新型公开了一种防皱褶辊筒及卷对卷等离子设备，属于柔性电路板加工设备技术领域，本防皱褶辊筒包括：凹辊筒段，凹辊筒段的直径沿其轴向从中心向两端逐渐变大；两个直辊筒段，两个直辊筒段分别位于凹辊筒段的两端，两个直辊筒段的直径均为D1，凹辊...

本发明公开了一种PCB等离子体处理设备及其控制方法，属于PCB等离子处理领域，本PCB等离子体处理设备包括：机架；处理腔室，处理腔室设置在机架上，处理腔室上开设有第一开口和第二开口，处理腔室用于对PCB制品进行等离子体处理；进料腔室，进...

本实用新型公开了一种用于RTR等离子的耐腐蚀传送装置，主要包括主架、主动轴、外框、从动轴、下定轴和第二弧板，所述主架右侧固定安装有上下对称的端板，两个所述端板与主架左侧壁分别固定安装有对称设置的外框，位于上部的两个所述外框之间转动安装有...

本实用新型公开了一种真空水平式蚀刻机，主要包括外框、供气泵、顶电极、均气板、底电极和真空泵，所述外框内侧中部设置有开口向前的加工腔，所述外框位于加工腔内侧上部固定安装有顶电极，所述外框位于加工腔内侧下部固定安装有底电极，底电极顶端侧壁固...

本实用新型公开了一种微波等离子蚀刻机，主要包括外框、供气泵、负极板、Y轴滑台、X轴滑台、Z轴滑台、电磁阀和正极板，所述外框内侧中部嵌设固定安装有左右对称的Z轴滑台，Z轴滑台上方装配滑动安装有滑板，滑板顶端固定安装有X轴滑台，X轴滑台顶端...

本实用新型公开了一种高效率高精度的大尺寸等离子蚀刻机，主要包括外框、真空泵、密封门、配气框、负极板、正极板和细孔板，所述外框内侧左部设置有密封槽，所述外框前侧转动安装有与密封槽配合的密封门，密封门中部贯穿固定安装有透视窗，所述外框位于密...

本实用新型公开了一种用于MSAP‑IC载板的全自动连线射频等离子蚀刻机，主要包括外框、控制器、真空管、供气管、滑架、端架和电极板，所述外框前侧转动安装有前门，所述外框右侧转动安装有侧门，所述外框右侧上部固定安装有转接套，转接套中部转动安...

本实用新型公开了一种采用两端支撑辊轳结构的卷对卷等离子清洗机，包括等离子清洗机本体，等离子清洗机本体的壳体两侧内壁均固定安装有支撑架，支撑架的顶端等距开设有若干个第一凹槽，第一凹槽的两侧槽壁均开设有第二凹槽，第二凹槽的槽底等距安装有若干...

本实用新型公开了一种内置绝缘机构的卷对卷等离子清洗机，包括机壳，机壳内部一侧的底部设有第一绕卷辊，第一绕卷辊的正上方设有第二绕卷辊，第一绕卷辊和第二绕卷辊均与机壳背面的电动机的输出端转动连接，第一绕卷辊和第二绕卷辊之间设有两个第一传动辊...

本实用新型公开了一种设有悬浮腔体的卷对卷等离子清洗机，包括本体，本体内部的底端固定设有两个滑轨，滑轨的内部活动设有螺纹杆，螺纹杆的一端固定设有从动轴，本体内部的一侧固定设有电机，电机的输出端固定设有主动轴，主动轴的表面固定设有两个主动带...

本实用新型公开了一种通过相邻对角方式接电的卷对卷等离子清洗机，包括壳体，壳体内部的一侧分别固定设有放卷辊和收卷辊，壳体内部的另一侧固定设有两个滑轨，两个滑轨的顶端分别与支架底端的两侧滑动连接，支架的顶部和底部均固定设有若干个第一传送辊轳...

本实用新型公开了一种气体布气管，包括歩气管、外架和固定环，歩气管的中部设有易折管，易折管的一侧设有若干毛细小孔，歩气管的另一端通过固定接头与球囊的一侧螺纹连接，易折管的顶部和底部均通过固定环与外架的两端螺纹连接，两个固定环的两侧均通过转...

本实用新型公开了一种具备加热功能的气体集气方通，包括本体，本体的两侧的一端均设有连接端片，两个连接端片一侧均开设有连接螺孔，本体一边侧的中部开设有若干气孔，本体的两边侧的中部均开设有螺纹通孔，两个螺纹通孔分别与两个丝杆的中部螺纹连接，两...

本实用新型公开了一种具有自调整功能的腔体前后门铰链，包括固定板，固定板一侧设有两个凹槽，凹槽内套设有外管，外管一端的中部穿插连接有内管，内管的一端通过螺母固定于固定板上，内管的另一端固定连接有连接块，连接块的一侧通过第一弹簧与外管内部的...

本发明公开了一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，包括腔体、安装座和腔门，腔体两个边侧的一端分别设有第一安装板和第二安装板，第二安装板的两端和第一安装板的两端均通过转动接头分别与腔门一端的两侧转动连接，两个腔门的中部均设有观察视窗，...

本发明公开了一种新型电极结构，包括悬挂框，悬挂框通过若干安装条和连接块固定连接有若干奇数电极板和偶数电极板，奇数电极板和偶数电极板顶端的一侧固定设有第一开口和导电棒安装座，电极板顶端的另一侧固定设有第二开口，相邻两个奇数电极板通过第一连...