本发明的镀纳米氧化锌膜层的玻璃是由玻璃和镀在玻璃表面的纳米氧化锌膜层组成。由于氧化锌能带结构（３．３ｅＶ）的本征特点，可透过太阳光的可见光，而吸收绝大部分的紫外光，因此本发明的镀氧化锌膜层玻璃具有很强的屏蔽紫外线功能，而且纳米氧化锌活性...

一种连续推板式高温玻璃喷涂炉，由炉体，推板装置，进炉口，出炉口组成，其特征是所述炉体分升温、保温和降温三个区域，炉体保温区有炉门，供操作人在加温过程中喷涂加工，可以连续不间断喷涂加工透明导电膜的玻璃，加工效率高。

本发明涉及一种玻璃基质芯片低温封接的方法，其特征在于，在玻璃基质微分析芯片基片的封接面表面存有水化层的条件下，在低温（４０－２００℃范围）或者室温（０－４０℃范围）的环境内，通过低温加热或简单放置的方法，完成玻璃基质微分析芯片的封接。本...

本发明的稀土掺杂的透明氟氧化物玻璃陶瓷的组分及其摩尔百分比含量为：ＳｉＯ↓［２］２０～７０％、Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］０～４０％、ＺｎＦ↓［２］０～３０％、ＭＦ↓［２］１０～７０％、ＲｅＦ↓［３］０．５～２０％，其中，Ｍ表示二价碱土金属离...

本发明涉及涂覆氮化钛的玻璃及其制备方法，它由玻璃和涂在玻璃上的氮化钛薄膜组成。制备步骤如下：将经过清洗的玻璃基片放入气相沉积反应室，反应室抽真空，通入Ｎ↓［２］；在保持抽真空的状态下，将反应室加热至５００～７００℃；将Ｎ↓［２］、ＮＨ↓...

本发明公开了一种常压氮气保护制备复合功能硅化钛镀膜玻璃及其制备方法。在普通浮法玻璃基板上沉积一层薄膜或在它们之间再沉积一层硅薄膜。通过制备得到硅化钛和硅的复合薄膜或在薄膜中掺入少量具有活性的碳或氮得到硅化钛复合碳化硅或碳化钛或者硅化钛复...

本发明涉及一种表面疏水剂，旨在提供一种玻璃疏水镀膜液。本发明提供的玻璃疏水镀膜液由长链烷基硅烷偶联剂、硅酸烷基酯、醇、无机酸催化剂和去离子水或蒸馏水组成，本发明提供的玻璃疏水镀膜液可以在汽车玻璃表面形成一层透明憎水膜。水滴在玻璃表面可以...

本发明公开了一种含磷锂铝硅玻璃陶瓷，其重量百分比组成为：二氧化硅７０％、氧化锂４％、氧化铝１５％、氧化镁０．９％－１％、氧化锌１％－１．１％、氧化钙０．４％－０．５％、氧化硼０．２％、氧化钛１．８％－３．２％、氧化锆２．０％－２．３％、...

本发明公开了一种纳米多晶相玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷的重量百分比组成为：二氧化硅７０％、氧化锂３．１％－４％、氧化铝１５％、氧化镁０．７％－１．２％、氧化锌０．８％－１．４％、氧化钙０．４％－０．７％、氧化硼０．２％、氧化钛１．８％－３．２％...

本发明公开了一种含氟磷锂铝硅玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷的重量百分比组成为：二氧化硅７０％、氧化锂３．８％－４％、氧化铝１５％、氧化镁０．７％、氧化锌０．８％、氧化钙０．７％、氧化硼０．２％、氧化钛２．５％、氧化锆１．９％－２．１％、氧化钾和氧...

本发明公开的应用于内部激光着色并形成三维黑色图案的玻璃，其组成及其重量百分比为：ＳｉＯ↓［２］４５－８５，Ｒ↓［２］Ｏ５－４０，ＲＯ５－３０，Ｒ↓［２］Ｏ＋ＲＯ１０－５０，Ｒ↓［２］Ｏ↓［３］０－２０，ＴｉＯ↓［２］０－８，Ｐｄ０．００...

本发明公开的应用于激光诱导内部着色形成三维套色图案的玻璃，其组成及其重量百分比为：ＳｉＯ↓［２］４５－８５，Ｒ↓［２］Ｏ↓［３］０－２０，Ｒ↓［２］Ｏ５－４０，ＲＯ５－３０，Ｒ↓［２］Ｏ＋ＲＯ１０－５０，ＴｉＯ↓［２］０－８，Ａｕ、Ａｇ...

本发明公开的用于内部形成两种以上着色三维图案的玻璃，其组成及其重量百分比为：ＳｉＯ↓［２］４５－８５，Ｒ↓［２］Ｏ５－４０，ＲＯ５－３０，Ｒ↓［２］Ｏ＋ＲＯ１０－５０，Ｒ↓［２］Ｏ↓［３］０－２０，ＴｉＯ↓［２］０－８，Ａｇ０．００１－...

本发明公开了一种通过热处理使ＴｉＮ薄膜表面具有自清洁性能的方法。方法步骤如下：１）用１０％的氢氟酸清洗玻璃基板；２）将玻璃基板放入气相沉积反应室，通入ＴｉＣｌ↓［４］、ＮＨ↓［３］和Ｎ↓［２］进行气相沉积反应，其中ＴｉＣｌ↓［４］的流量...

本发明公开一种通过掺杂Ｖ改善ＴｉＮ薄膜导电性能的方法。方法步骤如下：１）用１０％的氢氟酸清洗玻璃基板；２）将玻璃基板放入反应室中，反应室抽真空，并通入Ｎ↓［２］对反应室进行清洗；３）将反应室加热至４５０－７００℃；４）将ＴｉＣｌ↓［４］...

本发明公开了制备取向生长的二氧化钛薄膜的方法，步骤如下：１）将异丁酯和乙醇混合，搅拌下滴入冰乙酸作为螯合剂，得到均匀透明的淡黄色液体，调节乙醇水溶液的ｐＨ值至３－４．５，然后滴入上述液体中，继续搅拌得到溶胶；２）用浸渍提拉法将溶胶涂覆在...

本发明公开了在玻璃基板上沉积ＴｉＮ薄膜的方法，采用的是化学气相沉积法，通过调节反应气体进气管道的喷头和玻璃基板间的距离，实现控制沉积在玻璃基板上ＴｉＮ薄膜的电阻率及表面形貌、光学性能等。本发明方法比传统的通过调节反应温度和反应物的流量来...

本发明公开的在玻璃基板上沉积ＴｉＮ薄膜的方法，其步骤如下：将经清洗的玻璃基板放入化学气相沉积装置反应室的石墨支架上，反应室抽真空至－０．０２Ｍｐａ，并通入Ｎ↓［２］对反应室进行清洗；调节进气管道喷头和玻璃基板之间的距离范围为５～２５ｃｍ...

本发明公开的在玻璃基板上沉积氢化非晶硅碳合金薄膜的方法，采用的是射频电感耦合等离子体增强化学气相沉积法，步骤如下：将玻璃基板清洗后放入反应室，反应室抽真空，并加热基板，以Ｈ↓［２］稀释的ＳｉＨ↓［４］和ＣＨ↓［４］气体为反应气源，ＣＨ↓...

本发明公开的具有高光催化活性的多孔ＴｉＯ↓［２］薄膜的制备方法，步骤如下：将玻璃基板清洗后，置于石英平板上，一起放入等离子体化学气相沉积装置反应室的上下电极板之间；先向反应室通入氦气和氮气的混合气体，用产生的等离子体对加热至４００～５０...