本发明属于半导体制造技术领域，具体的说是一种半导体芯片生产工艺，该工艺包括如下步骤：将晶圆放到研磨机上研磨成镜面；将晶圆放入高温扩散炉内进行氧化处理；将晶圆表面涂抹光刻胶后放入光刻机中进行曝光、显影；将晶圆送入刻蚀机中进行等离子刻蚀；将...

本发明属于半导体加工和制造领域，具体的说是一种半导体集成电路用硅晶片刻蚀装置，包括刻蚀箱、端盖、固定座、激励线圈、偏压提供装置、盛放单元和转动单元，刻蚀箱为无盖圆筒型，端盖放置在刻蚀箱的顶部，固定座安装在刻蚀箱的内壁上；激励线圈用于将刻...

本发明涉及半导体工艺技术领域，具体涉及一种半导体晶圆批量刻蚀方法，该刻蚀方法涉及到的刻蚀装置包括反应腔、晶圆固定装置、气体注入口、激励线圈、旋转装置、离子加速器和加热装置。反应腔上设置有进气口、出气口和真空泵，真空泵与出气口相连接；晶圆...

本发明属于半导体技术领域，具体的说是一种硅晶圆刻蚀装置，包括电机、转盘、壳体和激励线圈，还包括晶圆固定模块和气体注入模块，所述的电机安装在壳体的正上方；所述的转盘安装在电机的电机轴上；所述的激励线圈环绕在壳体的外圈；所述的晶圆固定模块安...

本发明涉及半导体工艺技术领域，具体涉及一种半导体晶圆批量刻蚀装置，刻蚀装置包括反应腔、晶圆固定装置、气体注入口、激励线圈、旋转装置、离子加速器和加热装置。反应腔上设置有进气口、出气口和真空泵，真空泵与出气口相连接；晶圆固定装置位于反应腔...

本发明属于半导体工艺技术领域，具体的说是一种半导体集成电路用硅晶片刻蚀方法，该刻蚀方法采用了刻蚀设备，该刻蚀设备包括刻蚀箱、端盖、固定座、激励线圈、偏压提供装置、盛放单元和转动单元，刻蚀箱为无盖圆筒型，端盖放置在刻蚀箱的顶部，固定座安装...

本发明属于半导体制造技术领域，具体的说是一种半导体硅晶圆研磨系统，包括支撑架、翻转电机、驱动轴、单向制动器、旋转盘、固定盘、连接杆、研磨装置、研磨片、回收箱，所述制动转盘能够在旋转盘的中心圆柱孔内实现单向转动；所述旋转盘之间通过两个连接...

本发明属于半导体工艺技术领域，具体的说是一种硅晶圆刻蚀工艺，该工艺采用了晶圆刻蚀仪，该晶圆刻蚀仪包括电机、转盘、壳体、激励线圈、晶圆固定模块和气体注入模块，电机安装在壳体的正上方；转盘安装在电机的电机轴上；激励线圈环绕在壳体的外圈；晶圆...

本实用新型涉及一种新型蠕动泵泵头装置，包括前泵壳、后泵壳、滑块组件及管卡组件，所述前泵壳与后泵壳通过定位销固定连接，所述滑块组件由上滑块、旋转轴以及扳杆组成，其中旋转轴依次装入滑块固定槽一、滑块固定槽二的底部并锁紧上滑块；所述管卡组件装...

本发明公开了一种治疗淋巴结核、乳腺增生、良性淋巴瘤的药物组合物，由以下原料按重量份制得：尖贝母６－１０份、天葵子５－１１份、丹参８－１２份、玄参８－１２份、红花５－９份、银花７－１３份、黄芩５－１０份、黄柏６－１０份、黄连５－６份、桔梗...