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熙腾电子科技上海有限公司专利技术
熙腾电子科技上海有限公司共有1项专利
铜选择性蚀刻液和钛选择性蚀刻液制造技术
本发明公开了一种铜选择性蚀刻液,其由铜氧化液和铜螯合液组成,所述铜氧化液包括氧化剂和/或水,所述铜螯合液包括草酸盐、氨基羧酸和水,所述铜选择性蚀刻液pH值为6.0~8.5。所述铜选择性蚀刻液可对铜进行选择性和均匀性地蚀刻。本发明还公开了...
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