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武汉涵拓科技有限公司专利技术
武汉涵拓科技有限公司共有7项专利
薄膜正向建模模型的参数确定方法、装置及电子设备制造方法及图纸
本发明公开了一种薄膜正向建模模型的参数确定方法、装置及电子设备,该方法包括:基于参数调节因子对薄膜正向建模模型函数的初始斯托克斯向量表达式进行退偏修正,得到目标斯托克斯向量表达式,其中,参数调节因子包括波长调节因子、厚度调节因子和/或角...
薄膜形貌模型的参数确定方法、装置、电子设备及介质制造方法及图纸
本发明公开了一种薄膜形貌模型的参数确定方法、装置、电子设备及介质,该方法包括:获取标准样件的厚度数据和测量光谱数据;根据厚度数据和测量光谱数据对初始薄膜形貌模型进行优化,得到标准样件的光学常数与波长的关系曲线;根据光学常数与波长的关系曲...
光谱测量系统、光谱平衡片的参数确定方法、系统及仪器技术方案
本发明公开了一种光谱测量系统、光谱平衡片的参数确定方法、系统及仪器,该系统包括:椭偏仪;光谱平衡片,设置于椭偏仪的测量光路上,用于调节测量光路的光强;数据处理模块,与椭偏仪信号连接,用于根据椭偏仪的测量结果反馈确定光谱平衡片的目标调节参...
干涉条纹周期确定方法、装置及电子设备制造方法及图纸
本发明公开了一种干涉条纹周期确定方法、装置及电子设备,该方法包括:获取横向扫描干涉测量系统对标准样件进行横向扫描得到的干涉图像;计算干涉图像在不同方向的梯度能量,并确定梯度能量最大值所在的方向为横向扫描干涉测量系统的干涉条纹方向;沿垂直...
一种抗背反光学测量系统和方法技术方案
本发明公开了一种抗背反光学测量系统和方法,该系统包括:光源发射端,用于发出测试光至待测样本;光接收端,用于接收由待测样本反射的目标测试光以确定待测样本的偏振状态;物理限束型单元,用于调整测试光和/或目标测试光的光束直径小于预设的中心距阈...
光学衰减片及其制造方法和制造装置制造方法及图纸
本申请涉及一种光学衰减片及其制造方法和制造装置,制造方法包括:提供氧化铟锡导电玻璃,氧化铟锡导电玻璃包括玻璃基底和附着于玻璃基底表面的氧化铟锡薄膜;对氧化铟锡导电玻璃进行电化学改性,以使氧化铟锡导电玻璃的氧化铟锡薄膜表面被还原形成铟薄膜...
一种变焦显微三维成像系统和方法技术方案
本申请实施例提供一种变焦显微三维成像系统和方法,本申请基于提供的变焦显微三维成像系统,可以有效提升对待测样品的图像获取数量,从而提升对待测样品的三维测量速度,且适用于工业产线上的快速检测场景。
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