专利查询
首页
专利评估
登录
注册
微米技术股份有限公司专利技术
微米技术股份有限公司共有36项专利
利用升压衬底/槽的存储器件及运作该器件的方法和系统技术方案
要求一种升压的衬底槽/衬底浮栅存储单元编程方法,它将电压施加于与非闪存阵列的衬底或衬底“槽”以便在将高栅编程电压施加于所选浮栅存储单元的栅极、并耦合编程或编程禁止电压以根据需要对所选浮栅存储单元编程之前,对浮栅存储单元中的载流子沟道充电...
具有分段行修复的半导体存储器制造技术
披露了一种具有分段行修复结构的存储器件,它提供了单独位修复的优点,从而有效地使用了存储器件的冗余行。存储器件的行被分成四段,并且通过选择性地禁止缺陷存储单元所处的主要行的仅一个段的字线驱动器并用由冗余匹配电路提供的冗余项信号来使能冗余字...
跨越时钟域边界的方法和装置制造方法及图纸
一种将捕获数据的数据包络扩展到某一预定时钟周期数的方法和装置。该预定时钟周期数足够大,以保证内部产生的主时钟边沿在整个工作范围上,保持在所述数据包络内。这样,尽管温度和电压的变化会影响到所述存储装置的定时关系,但捕获数据仍维持有效,并能...
高速存储器总线上的同步写数据制造技术
接收经缓冲的命令时钟和未经缓冲的写时钟的某些同步半导体存储器件。写命令与命令时钟同步而相关的写数据则与写时钟同步。由于缓冲器的使用,命令和写时钟之间可能存在随机的相移。两个时钟间相移的存在使确定存储器件应该接受与写命令有关的写数据的时间...
在存储阵列中使用互补位的设备与方法技术
一种操作具有一组存储单元的展开位线和折叠位线DRAM存储阵列的设备和方法,在一个实施例中,在平面图中每个存储单元具有6f↑[2]的面积。一种方法包括,在第一个存储单元中存储第一个位并在第二个存储单元中存储与第一个位互补的第二个位。第一个...
闪存装置及其操作方法制造方法及图纸
一种用于闪存块的擦除操作的方法和装置。在一个实施例中,一种方法包括擦除存储块中预定百分比的行,分析用于擦除预定百分比的擦除脉冲的数量和计算可应用到存储块上以擦除其余行的附加擦除脉冲的可接受数量。在另一个实施例中,闪存装置包括存储阵列、控...
半密度嵌入ROM的DRAM制造技术
一半密度嵌入ROM的DRAM使用硬编程的非易失性单元和未编程的动态单元。通过将一对单元中的第一或第二存储器单元硬编程,存储不同的数据状态。两条字线被用于访问存储器单元对。因为一个单元被硬编程,读出放大器电路识别合适的数据状态。可以以大量...
用于存储设备的预测定时校准制造技术
本发明提供了一种使用2↑[N]位同步模式的独特方法,从而可在存储系统中获得较快且较可靠的多数据通道的校准。如果2↑[N]位同步模式是用已知的时钟相位关系获得的,则可使用简单的解码逻辑来判定数据-时钟相位的对准,从而从刚检测到的m位预测下...
无接触均匀隧道分离P-阱(CUSP)非易失性存储器结构,制造和操作制造技术
在非易失性存储器阵列和器件的制造中形成在隔离阱中的浮栅场效应晶体管或存储器元件很有用。这样的浮栅存储器元件列和包含列中的每个存储器元件的源/漏区的阱相关。这些阱和阵列的其他列的源/漏区隔离。Fowler-Nordheim隧道可以用于在个...
具有一致读取和验证阈值的存储器制造技术
闪存存储器设备中的多个单元在串联配置中被耦合在一起,如在NAND闪存存储器中。引用闪存存储器设备中的接地电势,确定第一访问单元的位置。第一字线信号被耦合到第一访问单元。响应在其串联单元中的第一访问单元的位置,调节第一字线信号电压电平。
操作集成电路器件的方法和系统技术方案
描述了改进的集成电路、存储器件、电路,以及数据方法,它们通过设置具有被可调延迟的输入和/或输出的接口,来帮助器件的信号定时的调节与重建。这允许本发明的实施例感测信号延迟并利用可调的输入或输出延迟来校正信号定时关系,从而使得设备的内部电路...
能够在半密度和全密度模式之间切换的DRAM及其操作方法技术
一种在半密度或全密度模式下操作存储器,并在需要时在各模式间切换的方法和装置。存储器设备在起动时默认设置成半密度操作以降低功耗,并在低地址全满时切换至全密度操作。当高地址再次为空时,该设备切换回半密度操作。
高功率效率存储器和卡制造技术
一种具有内部检测机构的存储器,该内部检测机构用于检测某些无连接引脚上外部电压的每一外部部件的存在,从而允许基于这些检测来改变内部电压泵的配置,或检测也能用作标准设备的存在。这些实施例允许系统取决于系统中其它电压源或诸如电感器等可用部件的...
用于存储设备的预测定时校准制造技术
公开了一种使用2↑[N]位同步模式从而可在存储系统中获得较快且较可靠的多数据通道的校准的独特方法。如果2↑[N]位同步模式是用已知的时钟相位关系获得的,则可使用简单的解码逻辑来判定数据-时钟相位的对准,从而从刚检测到的m位预测下一个m位...
偏振掩膜版、光刻系统以及用偏振掩膜版结合偏振光形成图案的方法技术方案
揭示了偏振掩膜版、使用偏振掩膜版的光刻系统、以及使用该系统的方法。形成的偏振掩膜版所具有的那个掩膜版包含至少一个第一图案化区域,该区域至少部分地由至少一个第二图案化区域所围绕。该偏振掩膜版的第一图案化区域包括偏振材料,并且偏振掩膜版的第...
沉积室表面增强和最后得到的沉积室制造技术
揭示了在基片上沉积薄膜用的装置内的暴露面进行钝化的方法。沉积室和与之相通管道的内表面经钝化处理而阻止了在沉积工艺中反应物和反应产物在所述内表面上的吸附或化学吸附。为此目的而进行的表面钝化处理包括表面处理、衬里、温度调节或它们的组合。还揭...
首页
<<
1
2
科研机构数量排行前10
华为技术有限公司
111183
珠海格力电器股份有限公司
86179
中国石油化工股份有限公司
71728
浙江大学
67547
中兴通讯股份有限公司
62506
三星电子株式会社
60991
国家电网公司
59735
清华大学
47963
腾讯科技深圳有限公司
45771
华南理工大学
44724
最新更新发明人
广东广青金属科技有限公司
121
北京海步医药科技有限公司
8
上海凤凰自行车江苏有限公司
74
江西联益光学有限公司
394
中兴通讯股份有限公司
62507
鋐隆塑胶电子深圳有限公司
22
PRC迪索托国际公司
151
铜陵景昌钢制品有限公司
9
长春一汽富维汽车零部件股份有限公司
61
武汉数据智能研究院
13