本发明涉及由合金组成的溅射靶，该合金由Co、Zr、Ta和任选地一种或多种选自由Mo、Pd、Ni、Ti、V、W和B组成的组中的其他元素X组成，其特征在于靶具有的最大磁导率μ

本发明涉及一种基于银合金的溅射靶，所述银合金包含：基于所述银合金的总重量，0.01至2重量％的选自铟、锡、锑和铋中的第一元素，和基于所述银合金总重量的0.01至2重量％的钛，并且具有不大于55μm的平均晶粒尺寸。且具有不大于55μm的平...

本发明涉及一种溅射靶，该溅射靶包含Ni、W和任选的一种或多种选自难熔金属、Sn、Al和Si的另外的金属X，其具有0.4以上的归一化的峰强度比PIR＝I

所称的圆柱形溅射靶包括基材和在所述基材上形成层的靶材料，所述层具有厚度d，其中所述靶材料含有TiOx为主要成分，并且x在1

已知一种用于制造吸光层的溅射靶材，该靶材由一种靶材材料组成，该材料包含氧化物相并且相比较化学计量的组成具有减少的含氧量，为此，提供一种溅射靶材，该溅射靶材包含导电相并且避免充电和形成颗粒，根据本发明建议，靶材材料包含由钼组成的金属相(M...

本发明涉及一种溅射靶，其包括银合金，所述银合金包含：基于所述银合金的总重量，0.01至2重量％的选自铟、锡、锑和铋中的第一元素，和基于所述银合金总重量的0.01至2重量％的钛，并且具有不大于55μm的平均晶粒尺寸。

本发明涉及一种溅射靶材，其包含氧化锆作为溅射材料，其中，所述氧化锆具有如下特征：与其完全氧化形式的氧含量相比，缺氧量为至少0.40重量％；基于包括锆的金属元素的总量，除锆之外的金属元素的总量小于3.0重量％；以及X射线粉末衍射图在28....

本发明涉及一种用于制备管状制品的方法，其包括(a)提供载体管，(b)通过在所述载体管上施加液态金属相并固化所述液态金属相而在所述载体管上提供金属涂层，(c)通过至少一个致密化工具来向所述金属涂层施加接触压力，以及使所述致密化工具与所述金...