本实用新型公开了一种新型立体式冬枣种植桩，其技术方案是:支撑杆的底端固定安装有插头，支撑杆的底端外壁固定安装有限位块，支撑杆的外壁上固定安装有固定杆，所述支撑杆的外壁上滑动安装有卡箍，卡箍外壁设有连接管，连接管设有移动杆，移动杆的外端设...

本实用新型公开了一种新型立体式冬枣种植桩，其技术方案是:支撑杆的底端固定安装有插头，支撑杆的底端外壁固定安装有限位块，支撑杆的外壁上固定安装有固定杆，所述支撑杆的外壁上滑动安装有卡箍，卡箍外壁设有连接管，连接管设有移动杆，移动杆的外端设...

本发明是在真空镀膜室的周边安装多个旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶，相邻两个靶的磁极性反向排列，镀膜室内形成闭合磁场。多个旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶的靶材成分有金属、化合物等多种，其中包括石墨靶。镀膜室内还配置有小圆形阴极电弧源、柱状阴极...

本发明公开了一种弧光放电离子渗氮技术和渗氮炉。在炉顶或炉壁安装阴极电弧源，用阴极电弧源产生的弧光等离子体中的电子流把氮气电离，用获得高密度的氮离子对工件进行清洗和进行弧光放电离子渗氮。渗氮速度比辉光放电离子渗氮的速度快。是一种把弧光放电...

本实用新型是一种沉积DLC薄膜的磁控溅射镀膜机。在镀膜室的周边安装多个旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶，相邻两个靶的磁极性反向排列，镀膜室内形成闭合磁场。多个旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶的靶材成分有金属靶、化合物靶、石墨靶。镀膜室内还配置有...

本实用新型公开了一种设置气体弧光等离子体清洗源的镀膜机。所述镀膜机包括磁控溅射镀膜机本体；磁控溅射镀膜机本体包括镀膜室和设于镀膜室内的工件转架和磁控溅射靶；镀膜室的顶部设有空心阴极电子枪，镀膜室的底部设有水冷阳极，空心阴极电子枪的位置与...

本实用新型公开了一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机。本实用新型在平面磁控溅射镀膜机、安装双层旋靶管型柱状磁控溅射靶的磁控溅射镀膜机和阴极电弧离子镀膜机的镀膜室中部设置两个柱状阴极电弧源。在清洗过程中利用两个柱状阴极电弧源互为阴阳极，...

本实用新型公开了一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机。本实用新型在平面磁控溅射镀膜机、在安装旋靶管型柱状磁控溅射靶磁控溅射镀膜机和在阴极电弧离子镀膜机的镀膜室中设置固体弧光等离子体清洗源。固体弧光等离子体清洗源的阴极和阳极分设在工件的...

本实用新型是一种在镀膜室中央配置两个柱状阴极电弧源的旋靶管型柱状非平衡闭合磁场的磁控溅射镀膜机。在镀膜室周边安装旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶，进行镀膜。旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶内磁钢的磁极性反向排列，形成闭合磁场。在镀膜室中央安装两...

本实用新型是一种旋靶管型柱状非平衡闭合磁场的磁控溅射镀膜机。属于真空镀膜技术领域。在镀膜机内安装旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶，相邻和对向安装的旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶靶内磁钢的磁极性反向排列，形成闭合磁场。闭合磁场可以使磁控溅射靶镀...

本实用新型公开了一种手术用器械托盘，属于医疗设备领域，其结构包括托盘本体和分隔板，托盘本体底部表面设置有两条相互平行的导向杆，托盘本体内垂直导向杆方向设置有分隔板，分隔板底部设置有滑槽，分隔板通过滑槽与导向杆滑动配合；托盘本体的一侧设置...

本实用新型是旋转磁控柱状弧源－平面弧源多弧离子镀膜机，在镀膜室中央安装旋转磁控柱状弧源，在镀膜室的侧壁上安装平面弧源。主要由镀膜室、平面弧源、平面弧源电源、旋转磁控柱状弧源、柱状弧源电源、工件转架、进气系、烘烤加热系统、两种弧源的引弧针...

本实用新型是一种旋转磁控柱状多弧源－平面磁控溅射源离子镀膜机。属于等离子体表面气相沉积技术。在镀膜室中央安装旋转磁控柱状多弧源，在镀膜室的侧壁安装平面磁控溅射源。主要由镀膜室、磁控溅射电源、平面磁控溅射源、工件转架、旋转磁控柱状多弧源、...

本实用新型公开了一种柱状磁控溅射蚌形双室真空镀膜机，两个镀膜室由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，它与真空机组相联，另一部分是可以开合移动的前门，在两个镀膜室的中央分别安装旋转磁控溅射柱状源和工件。属于表面等离子体气相沉积领域，镀膜...

本实用新型公开了一种多用途蚌形双室离子镀膜机，应用于表面等离子体气相沉积领域。其特征是，两个镀膜室分别由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，它与真空机组相联，另一部分是可以开合的前门。在镀膜室的顶部分别安装柱状弧源或柱状磁控溅射靶，镀...

一种旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机，在镀膜室中央安装旋转磁控柱状弧源。主要由镀膜室、工件转架、旋转磁控柱状弧源、进气系统、弧源电源、烘烤加热源、引弧针系统、真空系统、工件偏压电源组成。柱弧源由管状金属材料作靶材、管内安装数根条形永磁体，...

一种多用途柱状真空等离子体镀膜源。它是由柱状源靶座、柱状源靶材、磁芯、磁芯转动机构、进出水管、屏蔽罩组成。一台镀膜机只配一个柱状源，配两个磁场强弱不同的磁芯、两种类型的电源。根据镀膜需要换上弧光放电用或换上磁控溅射用的磁芯便可以镀氮化钛...

本实用新型公开了一种积木式多用途真空镀膜机，镀膜室上匹配柱状镀膜源、平面阴极电弧蒸发源、平面磁控溅射靶、电阻蒸发源、离子源，各种源的接口通用性强、互换方式简便。镀膜机匹配与各种源相适应的多种新电源、抽真空系统、气进气系统、工件加热系统、...

本实用新型公开了一种柱状磁控溅射源。该溅射源中的磁体沿阴极轴向呈螺旋线型布置。本实用新型整个阴极表面放电均匀、刻蚀均匀，放电面积大、靶材利用率高、使用寿命长，可广泛用于各种真空镀膜装置中。

本实用新型涉及一种柱状磁控阴极电弧蒸发源。该电弧源中的磁体沿阴极轴向呈螺旋线型布置。工作时，整个阴极表面放电均匀、刻蚀均匀，放电面积大，靶材利用率高，使用寿命长，可广泛用于各种真空镀膜装置中。