本实用新型公开了一种多用途真空镀膜机。在镀膜室中央可以安装旋转磁控柱状弧源，用于镀氮化钛等化合物膜，也可以安装旋转磁控柱状磁控溅射源，用于在低熔点基材上镀纯金属膜。是一种多用途真空镀膜机。在柱弧源和柱状靶的靶管中安装的条形永磁体做旋转运...

本发明公开了一种柱状磁控阴极溅射源。该溅射源中的磁体沿阴极轴向呈螺旋线型布置。本发明的溅射源整个阴极表面放电均匀、刻蚀均匀、放电面积大、靶材利用率高、使用寿命长，可广泛用于各种真空镀膜装置中。

本发明公开了一种柱状磁控阴极电弧蒸发源。该电弧源中的磁体沿阴极轴向呈螺旋线型布置。电弧源工作时，阴极表面放电轨迹为螺旋线型。本发明的电弧源整个阴极表面放电均匀，刻蚀均匀，放电面积大，靶材利用率高，使用寿命长，可广泛用于各种真空镀膜装置中。

本发明是一种应用于多弧离子镀、渗设备中的柱状阴极电弧源。包括管状阴极靶材、管内安装的平行于轴线的数根条形磁钢、磁钢整体做旋转运动。其特征是当引弧电极引燃冷场致电弧放电后，阴极电弧弧斑呈平行于柱状弧源轴线的细长光斑轨迹沿管状靶材表面扫描，...

本发明是新型永磁控平面阴极电弧源，由矩形平板状靶材、阴极电弧源靶座、条形永磁体组成。其特征是在矩形大平面阴极电弧源靶材后面配置条形永磁体，相邻永磁体的磁极性相反，按Ｎ－Ｓ交替布置。电弧斑呈直条形、曲线形或折线形长斑。只要定时移动条型永磁...