本发明提供一种用于在现有技术半导体晶片上制造应用特性低介电常数（低ｋ）隐晶层和用于由隐晶制造有机化的纳米结构的方法，并涉及到光学和电子器件，其可由这些材料获得。在此公开的结果表明使用化学汽相处理（ＣＶＰ）的单晶基质的结构和化学成分的改性...