本技术涉及储存技术领域，且公开了一种单晶金刚石研磨液储存结构，包括桶盖，所述桶盖的外壁固定连接有旋纹，所述桶盖的内部开设有转轴槽，所述转轴槽的内壁活动连接有转轴，所述桶盖的顶端固定连接有电机，所述桶盖的内部开设有密封槽，所述密封槽的内壁...

本技术涉及钻石液生产技术领域，且公开了一种钻石液生产用便于清理的混合搅拌机构，包括混合箱，所述混合箱的顶部开设有板槽，所述板槽的内壁活动连接有卡合板，所述卡合板的顶部固定连接有盖板，所述盖板的顶部固定连接有入料管，所述混合箱的一侧固定连...

本技术属于钻石液生产技术领域，具体的说是一种钻石液生产用钻石研磨机构，包括机体，所述机体的顶部固定连接有清理组件，所述清理组件包括支撑架、电机、转杆、转动架、研磨块、吸尘器、吸尘箱、过滤网、软管、电动推杆和吸尘头，所述支撑架的顶部固定连...

本技术涉及半导体技术领域，且公开了一种硅片夹持结构，包括罩体一，所述罩体一的内部活动连接有夹持机构，所述夹持机构包括滑槽，所述滑槽开设在罩体一的内侧壁，所述滑槽的内部活动连接有拉板，所述拉板的一侧活动连接有罩体二，所述罩体二的内壁固定连...

本技术涉及硅片生产技术领域，且公开了一种硅片生产用晶圆打磨机构，包括加工台，所述加工台的顶端固定连接有罩体，所述罩体的内部活动连接有调节机构，所述调节机构包括放置台，所述放置台固定连接在加工台的顶端，所述放置台的顶端活动连接有打磨块一，...

本技术属于金刚石研磨液加工相关领域，具体的说是一种用于金刚石研磨液具有自动清洗功能的电动搅拌机，包括机体，所述机体的底部固定连接有清洗组件，所述清洗组件包括输出电机、转杆、搅拌杆、连接杆和清洗刷，所述输出电机的输出端通过联轴器固定连接有...

本实用新型涉及钻石液生产技术领域，且公开了一种钻石液生产用混合机构，包括混合箱，所述混合箱的顶部开设有通孔，所述混合箱的内侧壁固定连接有限位板，所述通孔的内壁活动连接有连接杆，所述连接杆的一端固定连接有把手，所述连接杆的另一端固定连接有...

本实用新型涉及金刚石抛光液领域，具体为一种金刚石抛光液生产用混合搅拌机构，包括搅拌壳，所述搅拌壳顶部活动连接有进料塞，所述搅拌壳的一侧固定连接有支撑杆，所述支撑杆的一端固定连接有连接板，所述连接板的一侧固定连接有第一电机

本发明公开了一种莫桑钻表面处理技术，包括以下步骤：步骤一，将莫桑钻先置于45‑55℃去离子水中进行超声水洗1‑2h，超声功率为10‑50W，超声10‑20min，随后取出，风干至表面含水率为4‑10％。本发明先进行超声水洗，去除表面含土...

本发明涉及半导体晶片技术领域，具体涉及一种半导体晶片清洗机，包括若干根支撑腿，支撑腿顶端共同固定连接有支撑平台，所述支撑平台内部开设有第一空腔，第一空腔通过第一软管与外界的引风机相连接，所述支撑平台上表面均匀开设有若干第一通孔，且支撑平...

本发明公开了一种砷化镓抛光液，由以下重量份的原料制备而成：磨料20～40份、表面活性剂3～7份、螯合剂1～3份、PH值调节剂1～6份、保湿剂1～3份、去离子水30～50份，本发明的有益效果是：可实现对砷化镓的低应力、低损伤和超光滑加工，...

本发明公开了一种用于4H碳化硅晶片的抛光液，包括以下重量份原料：纳米二氧化硅20‑40份，聚乙二醇1‑5份，立方碳化硼1‑5份，单晶金刚石1‑5份，土槿皮酸0.5‑2.5份，苯扎氯铵1‑6份，硬脂酸丁酯5‑10份，PH调节剂0.5‑2....

本发明公开了一种硅片单面抛光装置及其方法，包括：上夹持盘、内套筒、下夹持盘、抛光盘、振动电机和板状弹性件，所述上夹持盘固定在下夹持盘上，所述振动电机安装在抛光盘顶面；所述板状弹性件的另一端与抛光盘的侧面贴合，所述板状弹性件设置多组，并沿...

本发明公开了一种静电除霾装置，包括机箱、清洗装置、过滤网、高压电离散流网、吸尘电极、风机，所述机箱水平设置，机箱的一端为进气端，所述机箱的另一端设有出气筒，所述出气筒内设有风机，所述机箱的内部且靠近进气端的一侧设有过滤网，所述过滤网的一...

本发明公开了一种低钠抛光液，包括以下重量份原料：二氧化硅20‑40份，脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠1‑5份，乳酸钙1‑6份，氢氧化铝1‑10份，二乙醇胺0.5‑2.5份，羟基喹啉0.5‑2.5份，羟丙基甲基纤维素10‑20份，去离子水40‑6...

本实用新型公开了一种便于携带的抛光液的存放设备，包括主体、螺栓和支板，所述主体的内壁四周固定有隔温层，且隔温层的内壁左右两侧设置有防腐层，所述防腐层的下方安装有缓冲垫，所述螺栓贯穿于主体的外壁四周，且螺栓靠近主体中轴线的一侧连接有橡胶板...

本发明公开了一种4H碳化硅晶片的抛光方法，包括以下步骤：1)将抛光布置于抛光槽底部，绷紧后将抛光布边缘固定；2)将抛光槽内倒入抛光液；3)将端面固定有4H碳化硅晶片的抛光盘垂直伸入到抛光槽中，4H碳化硅晶片和抛光布贴合；4)驱动抛光盘在...

本发明公开了一种蓝宝石球罩加工抛光液，包括以下原料：硅溶胶40‑60份、磨料改性剂1‑3份、磨料助剂0.2‑0.8份、六偏磷酸钠0.5‑1.5份、表面活性剂0.5‑0.9份、乙二胺四甲叉磷酸钠络合剂0.2‑1份、pH调节剂0.1‑0.7...

本发明公开了一种氮化硅CMP抛光液，由以下重量份的原料制备而成：纳米磨料40～60份、氧化剂2～6份、表面活性剂1～6份、保湿剂2～4份、酸性pH调制剂2～4份、增速剂4～8份、去离子水30～50份、抛光液分散助剂2～6份，本发明的有益...

本实用新型公开了一种低钠离子砷化镓抛光液运输用可调节移动装置，包括固定支架、从转轴和滑槽，所述固定支架的上方安装有连接杆，且连接杆的后端固定有支撑杆，所述支撑杆的后端设置有主转轴且固定支架的上方安装有连接杆，且连接杆的后端固定有支撑杆，...