本技术公开了一种机电安装用电缆架设装置，包括底板，所述底板内设有横腔，所述横腔内设有双向螺纹杆，所述双向螺纹杆的两端与横腔的左右两侧内壁转动连接，所述双向螺纹杆上螺纹连接有两个滑块，两个所述滑块与横腔的内壁滑动连接，所述横腔上设有条形开...

本技术公开了一种密封性强的化学气相沉积进气装置，包括管体；单向密封机构，所述单向密封机构包括设置在管体下方的密封板，所述密封板的上端设置有连接块，所述管体的内壁上固定连接有横板，所述横板与连接块通过第一弹簧弹性连接；所述密封板的上端固定...

本技术公开了一种半导体机电设备漏电检测机构，包括设备本体，所述设备本体的上方设置有横状条，所述横状条的前侧设置有竖状条，所述横状条的前侧开设有第一滑槽；第一移动机构，所述第一移动机构位于第一滑槽内，所述第一移动机构包括转动连接在第一滑槽...

本技术涉及化学气相沉积设备技术领域，公开了一种化学气相沉积设备的温度控制装置，包括底座，所述底座上部后侧固定连接有风机，所述风机输入端固定连接有第二连接管，所述第二连接管一端固定连接有吸风罩，所述风机输出端固定连接有第一连接管，所述第一...

本技术公开了一种能提高进气均匀性的化学气相沉积炉，包括壳体，所述壳体内设置有反应腔和升温腔；注气机构，所述注气机构包括设置在升温腔内的螺旋导温管，所述螺旋导温管的进气端连通有进气管，所述螺旋导温管的出气端连通有连接管，所述反应腔的内底部...

本实用新型涉及化学气相沉积技术领域，公开了一种用于化学气相沉积的供气机构，包括支撑底板，所述支撑底板的顶壁设置有安装底板，所述安装底板的顶壁固定连接有立板，所述立板的顶壁固定连接有支撑座，所述支撑座的外侧壁左部固定连接有安装座，所述安装...

本实用新型涉及气体流量控制设备领域，公开了一种化学气相沉积的气体流量控制箱，包括箱体，所述箱体的内部设有用于化学气相沉积中气体速率控制的速率控制机构；所述速率控制机构包括两个转动杆、两个翻转板、主动皮带轮以及从动皮带轮，两个所述转动杆分...

本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域，公开了一种化学气相沉积炉的搅拌进气装置，包括工作台，所述工作台的内部固定连接有炉体，所述炉体的上端设置有炉盖，所述炉盖的内部开设有滑槽，所述炉盖的上表面固定连接有电机，所述电机的输出端固定连接有第...

本实用新型公开了一种用于半导体芯片生产用机械手，属于半导体芯片技术领域。一种用于半导体芯片生产用机械手，包括放置台，放置台上侧后端中部固设有支撑架，支撑架前侧上端固设有机械手箱，支撑架内部上侧开设有方形腔，方形腔内部设有电机，电机输出轴...