藤次药品工业株式会社专利技术

藤次药品工业株式会社共有1项专利

  • 一种制备下式化合物或其盐的方法其中R+[1]是吡啶基,R+[2]是氢,低级烷基或羟基(低级烷基),R+[3]是氢,羟基或低级烷基,R+[4]是可被选自下述取代基选择取代的芳基,取代物是低级烷硫基,低级烷亚磺酰基,低级烷磺酰基,硝基,氨基...
1