本发明公开了一种尤其是用于生活用水的柜台处理的水处理设备。该设备包括：基座单元，其包括泵、壳体和用于激冷壳体中的水的冷却单元；与壳体接合的可拆除的储水器；控制面板，其包括水分配开关；用于从流体处理系统分配处理过的水的出口；以及可拆除地设...

公开了一种流体处理系统反应器阵列（１０５）。反应器（１５５）的布置方式为使得流体可以沿螺旋方向经过该阵列。流体处理系统能够处理大量流体（例如水）同时需要较小的占地面积。本质上，本发明的流体处理系统在相对较小的空间内集中了相对较多的辐射源...

本发明公开了一种新颖的液面控制系统，特别是用于控制在敞开渠道中流动的水面高度。该液面控制系统包括具有挡板部分（３）的闸门，该挡板部分连接于杠杆部分（５）。该挡板部分能够绕第一枢轴点（８）转动并包括第一重块。该系统还包括框架（１），该框架...

一种用于检测在具有一个厚度的辐射场中的辐射的光辐射传感器装置。该装置的一个优选实施方案包括辐射源和设置成接收来自该辐射源的辐射的辐射传感器元件。设置一个电机（或其它移动装置）以使所述辐射场的厚度从第一厚度改变到第二厚度。所述传感器元件可...

本发明涉及一种辐射传感器设备，其包括壳体和固定到壳体的多个辐射传感器模块，每个辐射传感器模块包括辐射传感器，其检测入射在辐射源模块上的辐射。优选地，每个辐射传感器模块包含完整的所谓的光学链，以允许在不拆卸模块的所有部件的情况下校准检测器...

本文描述了一种用来预测处理过程中的至少一个液体流动参数的在线设备。在实施例中，所讨论的处理过程包括一个流动区域，该处形成一个预定部分，液体在这部分那流动，该设备包括一台计算机，计算机具有：（ｉ）一个接收数据库的存储器，数据库包括在预定部...

本发明提供一种清洗剂，其中含有清洁剂、粒状粘土材料和水性载体。该清洗剂的ｐＨ低于约４．０，其特征是２５℃下剪切速率达到约０．１０ｓ↑［－１］时粘度下降至少９０％。该清洗剂具有触变性，并且它的酸稳定性、温度稳定性、电解质稳定性和紫外线照射...

本发明公开了一种含有洗涤剂、微粒粘土材料和水性载体的清洁剂。在优选实施方案中，该配方的ｐＨ低于约１．０并具有如下特征：（ｉ）２５℃在高达约０．１０ｓ↑［－１］的剪切速率下，粘度降低至少９０％，以及（ｉｉ）经过至少６０天的时间段粘度基本不...

重力进料流体处理系统，包括流体进口、流体出口、置于流体进口和流体出口之间的辐照区，辐照区（ｉ）包括至少一个辐射源，和（ｉｉ）具有一个闭合的横截面以限制被处理的流体在距至少一个辐射源组件预定的最大距离之内。

一种从辐照组件上清除污物的方法，该方法包括下列步骤：（ｉ）使辐照组件的至少一部分浸在流体里，和（ｉｉ）使辐照组件在足以基本上阻止污物附着到至少一个辐射源上的频率下振动。一种用于流体处理系统的辐照组件，该组件包括：一个在流体处理系统中固定...

一种流体处理装置，包括一个用于容纳液体流的壳体，该壳体包括一个流体入口，一个流体出口，一个位于所述流体入口与流体出口之间的流体处理区，和至少一个位于该流体处理区的辐射源组件，所述至少一个辐射源组件包括一个可密封地同一个臂连接的辐射源，该...

通过在系统中每个灯单元的外表面的一或多个预定的位置安置一或多个垫片之类的环形装置加强系统中的紊流混合。垫片可直径相同也可直径不同。紊流混合还可以仅通过把每个灯单元的上游端支持在一个环形装置中加强，也可以通过结合如上所述的在每个灯单元的外...

一种用在包含射线源部件的液体处理系统中的清洗设备，该清洗设备包括：至少一个与射线源部件（１５０）的外部滑动啮合的清洗套筒（３００）；一个清洗室（３１０），它位于该至少一个的清洗套筒内，与射线源部件（１５０）的外部的一部分相接触，其中充满...

本文介绍了一种经过改进的照射源模块，它具有适合至少部分浸没在处理流体中的电源。在一实施例中，电源部分浸没在处理流体中。在另一实施例中，电源完全淹没在处理流体中。还描述了具有该照射源模块的流体处理系统。

一种流体混合装置，它包括至少一个混合元件，它们相对于流经该装置的流体方向成特别的取向。该混合元件的这个新颖取向导致提高了流体混合。

通常希望在高流体速度下操作紫外（ＵＶ）水处理系统，例如当需要低的紫外剂量时，被处理的水的紫外透射率是高的时候，或者当使用高强度辐射源时。明渠紫外流体处理系统在高流速下的操作导致不成比例量的水穿过顶部灯之上的较低强度区域。这样导致了不均匀...

一种辐射源标准组件，它包括一个支撑件，一个与支撑件连接的辐射源组件，一个放置在标准组件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和与第一表面相邻的第二表面之间提供流体基本上不能透过的密封。

本发明对象是一种用于液体ＵＶ消毒的双壁腔室，所述液体优选为饮用水和／或废水。它甚至在高压下实现了ＵＶ辐射腔室的矩形和／或正方形横截面形状，由此辐射腔室可另外装备有薄壁构造，并且对比于圆形腔室可进行ＵＶ辐射器的最优和紧密配置。通过应用这种...

一种辐射源组件，包括支撑部件、与支撑部件相连的辐射源装配体，辐射源装配体包括至少一个具有源纵轴和位于组件的第一伸长表面上的组件－表面密封的伸长辐射源，第一伸长表面包括与源的纵轴横向交叉的第一纵轴，密封可基本上提供第一表面和与其相邻的第二...

一种用于设置在凸缘管流体传输系统中的流体处理系统，该流体处理系统包括：　　　　球墨铸铁法兰管接头，其包括：　　　　（ａ）第一凸缘开口和第二凸缘开口，它们基本对齐以形成流动轴线，该轴线与通过该第一开口和第二开口的流体流动方向基本平行；以及...