本实用新型提供了一种喷砂钝化设备，包括设备壳体以及设置于设备壳体内的刀具安装机构、喷头机构和喷头移动机构，所述喷头机构连接至喷头移动机构，在喷头移动机构的带动下左、右移动或上、下升降，所述喷头机构包括喷头、所述喷头面向刀具安装机构上的工...

本实用新型公开了一种滚齿刀用抛光设备，包括工作台，设置在工作台上的抛光机构以及刀具夹持机构；所述刀具夹持机构平行设置在抛光机构的侧面，包括固定架，所述固定架的顶部长度方向的两端分别固定设置一第二电机和一气缸，所述第二电机输出轴的端部气缸...

本实用新型公开了一种插齿刀用抛光设备，包括工作台、设置在工作台上的抛光机构及顶紧机构；所述顶紧机构包括固定框，所述固定框的顶部固定设置一气缸，所述气缸的活塞杆竖直向下穿过顶板，固定框的底部固定设置一第二电机，第二电机的输出轴竖直向上穿过...

本实用新型公开了一种中频反应磁控溅射镀膜设备，所述设备包括设备支架、真空腔体和电源柜，所述真空腔体固定在设备支架的上方，所述真空腔体前端设置有离子源，后端中部与离子源相对的位置设置有中频孪生靶，在真空腔体的外侧顶部设置有分子泵；所述真空...

本实用新型公开了一种小型可移动式等离子体表面改性设备，所述设备包括壳体，所述壳体内设置有真空反应装置、气瓶、偏压电源、控制器和真空泵等，所述真空反应装置内顶部设置有辅助电极，所述真空反应装置内底部中间位置固定设置有基片台，所述基片台上设...

本实用新型公开了一种射频等离子体氧化氮化设备，包括射频离子源、真空腔体、气路系统、水路系统和电控系统，所述射频离子源固定在真空腔体一端，射频离子源上设置进气口、进水口和出水口，射频离子源上设置射频线圈和磁场线圈。本设备通过以腔体为中心将...

本实用新型提供一种气体弧光放电装置以及与真空腔体的耦合系统，利用热阴极电子发射原理与辅助阴极进行配合产生等离子体，通过该装置的磁场模块与腔体轴向磁场模块耦合进行等离子体渗氮。通过控制气体弧光放电装置与腔体轴向磁场的参数进行耦合，选取最佳...

本发明提供一种气体弧光放电装置、与真空腔体的耦合系统及离子渗氮工艺，利用热阴极电子发射原理与辅助阴极进行配合产生等离子体，通过该装置的磁场模块与腔体轴向磁场模块耦合进行等离子体渗氮。通过控制气体弧光放电装置与腔体轴向磁场的参数进行耦合，...

本公开提供了一种电弧离子源及电弧离子源镀膜方法，能够显著提高膜层表面质量，提高靶材利用率，消除大颗粒污染，以提高膜层制备的经济效益。该电弧离子源包括至少两个磁场产生装置、靶材和电信号输出装置，两个磁场产生装置对称设置在靶材的两侧，每个磁...