本发明提供了一种免清洗托盘，包括：第一托盘，第二托盘；所述第一托盘用于承载电池片进出PECVD设备，所述第二托盘铺设于所述第一托盘的上端表面，所述第二托盘开设有若干用于放置片状元件的镂空空腔，所述第二托盘能够对所述第一托盘的表面进行遮挡...

本实用新型公开了一种基于空气动力学的匀流板结构，包括匀流板本体，通过匀流板连接的上腔室和下腔室；上腔室中形成有若干进气部和若干抽气部，进气部间隔排布，且上腔室沿长度方向的中间位置未设置有进气部；抽气部置于进气部两侧；进气部设置有若干进气...

本实用新型公开了一种托盘加工用工装，包括：承托装置以及设置在所述承托装置上的夹紧部件，承托装置正面开设有正向凹槽，用于固定托盘，正向凹槽槽底开设有内圈通孔以及外圈通孔，外圈通孔设置在内圈通孔与正向凹槽槽口的中间位置；承托装置背面开设有背...

本发明公开了一种高效电池生产工艺及设备，包括以下步骤：硅片由进出口腔室进入设备，保持真空状态，将硅片送进第一PECVD腔室进行正面镀iP层；将硅片送入翻片腔室进行翻片后，由传送腔室送入第二PECVD腔室进行反面镀iN层；将硅片进入PVD...

本发明公开了一种真空腔室在线清洗方法，用于在线清洗镀膜工艺使用的真空腔室以及气体喷淋头表面堆积的聚合物，包括以下步骤：S1、向真空腔室中通入工艺气体，通过向真空腔室施加射频电源，保持一段时间，工艺气体电离产生高能量的无序等离子体；S2、...

本发明公开了一种铜电镀设备及方法，包括：S1：硅片除油污后水洗，使油墨在硅片表面图形化；S2：将硅片置入含锡的金属溶液中，对硅片施加反向电压，在硅片表面形成金属锡层来充当种子层；S3：水洗后对硅片电镀铜，再次水洗后对硅片电镀锡，水洗后去...