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苏普瑞亚·杰斯瓦尔专利技术
苏普瑞亚·杰斯瓦尔共有2项专利
与光刻及其他应用中的超紫外辐射联用的材料、组件以及方法技术
描述了用于在紫外(UV)、超紫外(EUV)、和/或软X射线波长上工作的设备和系统中的纳米结构的光子学材料及相关联的组件。此类材料可用针对所选波长范围(诸如在特定UV、EUV、或软X射线波长或波长范围上)设计的纳米尺度特征来制造。此类材料...
与光刻及其他应用中的超紫外辐射联用的材料、组件以及方法技术
描述了用于在紫外(UV)、超紫外(EUV)、和/或软X射线波长上工作的设备和系统中的纳米结构的光子学材料及相关联的组件。此类材料可用针对所选波长范围(诸如在特定UV、EUV、或软X射线波长或波长范围上)设计的纳米尺度特征来制造。此类材料...
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