本发明公开了一种化学蚀刻工件的装置，该装置包括：接收处理气体的腔室，该腔室具有用于抽取排出气体的泵送口；和位于腔室内泵送口的上游的工件支撑部。该腔室进一步包括副腔，该副腔位于泵送口的上游和工件支撑部的下游，副腔包括窗口和临近窗口的激发源...

本发明涉及一种在工件中的凹槽内等离子气相沉积金属的方法。该方法通过利用Ａｒ和Ｈｅ和／或Ｎｅ的混合物作为溅射气体来实现对凹槽底部金属的再溅射，其中Ｈｅ和／或Ｎｅ∶Ａｒ的比值至少为约１０∶１。

一种等离子体刻蚀位于腔室中的一定类型的一般平面工件中的长的特征的方法。该方法包括：在腔室中刻蚀处于平的配置的测试工件；确定特征的纵向部分相对于正交地穿过工件的轴的各自的角度；以及确定为了至少在工件的中心部分上将所述角度基本上减小到０°所...