本发明涉及一种用于在选择区域中以原子尺度进行材料沉积、蚀刻和/或清洁的原子层工艺打印机。本发明进一步涉及一种使用所述原子层工艺打印机在选择区域中以原子尺度进行材料沉积、蚀刻和/或清洁的方法。蚀刻和/或清洁的方法。蚀刻和/或清洁的方法。