深圳市新凯来技术有限公司专利技术

深圳市新凯来技术有限公司共有33项专利

  • 本申请实施例提供一种复合分子泵和设备,属于真空设备技术领域,泵壳沿第一方向的两端分别具有进气口和出气口,基座盖设于出气口处。转动轴沿第一方向延伸,牵引定子相对于涡轮结构更靠近基座设置,且与基座相连,盘式牵引转子位于涡轮结构和牵引定子之间...
  • 本申请涉及抽真空领域,公开了分子泵及半导体设备。分子泵包括外壳、电机和旋转体,电机包括电机壳体与转轴,旋转体包括安装于转轴的输出端并环绕电机壳体的基部,基部与电机壳体之间形成具敞口的套设间隙,电机壳体与基部中的至少一者朝向套设间隙的表面...
  • 致动机构、光学模组及半导体设备,致动机构包括动子和定子,动子与定子间隔设置,定子用于驱动动子相对定子作两自由度运动,定子包括M个电极组,其中,M≥1,每个电极组包括三个电极单元,每个电极单元包括两个电磁体,每个电极单元中的两个电磁体用于...
  • 本发明公开了一种漏液检测装置,包括:水箱;压差传感器,设于水箱之外;高位取压管,高位取压管的第一端为开口端且高于水箱内的最高液位,且高压取压管连接压差传感器的第一接口;低位取压管,低位取压管的第一端为开口端且插入于水箱中并低于水箱内的最...
  • 本申请提供一种压电电机及半导体设备。包括具有第一和第二组驱动足、具有第三和第四组驱动足的两个压电机构和其之间的运动件;第一和第三组驱动足,以及第二和第四组驱动足能够联动,且两者的运动状态不同;每一组驱动足均能够沿第一方向伸缩以与运动件接...
  • 本申请涉及光纤技术领域。本申请提供的基于光子晶体光纤的密排光纤束包括包括横截面为多边形的多个光子晶体光纤,光子晶体光纤包括纤芯和包覆在纤芯的外侧的包层,包层中还设置有沿包层的轴向穿过包层的多个空气孔。在光纤束的横截面上,一个光子晶体光纤...
  • 本申请公开了一种盘式牵引真空泵级、真空泵、复合真空泵及半导体设备,涉及真空泵技术领域,为了解决现有的盘式牵引泵性能不高的问题,该泵级包括转子和定子,定子上设有至少一个定子盘,转子上设有至少一个转子盘,转子盘的外边缘设有至少一个通孔,转子...
  • 本申请提供了一种离心风机和散热装置,涉及风机技术领域,离心风机包括非均匀流场结构、叶轮和扩压器,扩压器包括一级扩压模块和二级扩压模块,一级扩压模块位于叶轮的外周,二级扩压模块位于一级扩压模块的外周,非均匀流场结构位于二级扩压模块的外周,...
  • 本申请提供了一种直线电机及加工装置,直线电机包括多个第一磁钢、多个第一线圈及多个第二线圈。多个第一磁钢沿第一方向依次排列,相邻的两个第一磁钢的磁极相反。在第二方向上,多个第一线圈及多个第二线圈设置于多个第一磁钢的一侧,多个第一线圈沿第一...
  • 本申请提供了一种光源及光学设备。光源包括腔室、可电离介质、预燃装置、第一激光器、第一光学元件、第一光纤、第二光学元件和第二光纤。可电离介质容纳于腔室内。预燃装置用于使可电离介质电离并形成发光区域。第一激光器用于向发光区域发射激光束,以维...
  • 本申请提供了一种排气结构、分子泵及工艺设备,排气结构包括第一排气件和第二排气件。第一排气件和第二排气件中的一者套设于另一者外。第一排气件和第二排气件用于相对转动。第一排气件靠近第二排气件的侧壁上设置有螺旋凸起。第二排气件靠近第一排气件的...
  • 本申请提供了一种激光维持等离子体光源及其使用方法和光学设备。激光维持等离子体光源包括容器、第一电极、第二电极和激光器。容纳可电离介质的容器具有连通的第一腔室和第二腔室。第一电极与第二电极可电离第一腔室内的可电离介质,并形成第一发光点。激...
  • 本申请提供了一种辐射光源及光学设备。辐射光源包括腔体、激光器、第一光学元件、激发装置、第二光学元件以及收集单元。腔体收容可电离介质。激光器与第一光学元件位于腔体在第一方向上的一侧,激光器向第一光学元件射出第一激光束。第一光学元件具有位于...
  • 本申请实施例提供一种电磁阀、电磁阀组件、质量流量控制器和电子设备,电磁阀,电磁阀包括导磁壳体、导磁柱、导磁阀芯、阀嘴、驱动线圈和检测线圈,检测线圈与电容并联形成谐振电路,谐振电路的第一端通过电阻与控制器电连接,谐振电路的第二端接地;检测...
  • 本申请涉及工艺处理技术领域,特别涉及一种真空卡盘及工艺处理设备。该真空卡盘包括卡盘和支撑结构。卡盘具有相对的表面和底面,卡盘设置有贯穿表面与底面的抽气孔,抽气孔具有位于卡盘表面的进气口以及位于卡盘底面的出气口,进气口的气体流通面积小于出...
  • 本申请提供一种电容薄膜真空计及半导体设备,电容薄膜真空计包括壳体、感应膜片、固定电极和基板,感应膜片固定于壳体内并将壳体的内腔分隔为参考腔和测量腔。壳体的固定凸部沿壳体的径向自壳体的内壁朝壳体内部方向凸起,固定凸部用于支撑基板,沿壳体轴...
  • 本申请涉及工艺设备技术领域,尤其涉及到一种静电卡盘及工艺设备。静电卡盘包括基底、第一绝缘介质层和第二绝缘介质层,第一绝缘介质层设置于基底上,第二绝缘介质层设置于第一绝缘介质层背离基底的一侧;其中,第一绝缘介质层内具有至少一个电极对,每个...
  • 本申请提供了一种基板、卡盘及刻蚀机,其中,基板包括:基体,基体具有第一表面,基体的内部设置有第一流道,第一流道具有第一端口和第二端口,第一端口和第二端口均位于第一表面,第一流道包括依次首尾相连的多个子流道,多个子流道中包括蛇形盘绕子流道...
  • 本申请实施例公开了固定电极、电容式薄膜真空计及电子设备,其中,固定电极包括:支撑板;设置于支撑板上的电极层。电极层包括:共圆心的补偿电极、第一环形电极以及第二环形电极;第一环形电极环形且间隔设置于补偿电极外围,第二环形电极环形且间隔设置...
  • 本申请涉及机械设备技术领域,尤其涉及到一种静电卡盘及静电卡盘的制备方法。该静电卡盘包括定位盘,定位盘内具有金属电极和金属连接块,金属电极具有加热部和连接部,连接部的第一端与加热部连接,金属连接块具有定位部,定位部贯穿金属连接块,连接部的...