本发明提供一种透明导电薄膜及其制造方法，该薄膜包括柔性基材和透明导电氧化物层，所述柔性基材的表面由内到外依次叠设有第一硬涂层、第一层底涂层、第二层底涂层，所述透明导电氧化物层设于第二层底涂层上。本发明还提供一种具有上述柔性透明导电薄膜的...

一种磁控溅射镀膜生产系统和工艺，该系统包括进出片室、过渡室、第一旋转室、两个工作站，进出片室、过渡室、第一旋转室依序衔接，两个工作站分别衔接至第一旋转室，一个工作站包括第一镀膜室和第二旋转室，第一镀膜室的两端分别连接至第一、第二旋转室，...

本实用新型涉及一种基片处理装置，该基片处理装置包括：基片处理室、用于在基片处理室内承托基片的基片承托架、对基片承托架所承托的基片进行处理的基片处理器，其中该基片处理装置进一步包括用于传动基片处理器的处理器传动装置。通过采用上述结构，使得...

本发明公开了一种基片架，包括基片架本体，在基片架本体上开设有一组与基片架的编号相对应的能使光信号穿过的条形光栅孔编码。本发明还公开了一种对连续镀膜生产线基片架的自动识别方法，包括如下步骤：１）通过光电开关检测在运动的基片架上开设的条形光...

本实用新型涉及一种反射膜，其膜系结构为：基材层／Ｎ１／Ｎ２／Ｎ１／Ａｇ／Ａｌ，其中介质层Ｎ１相对于介质层Ｎ２具有较高的折射率，反射面为前表面结构，所述基材层为ＰＥＴ薄膜或者玻璃，所述材料层Ｎ１是ＴｉＯ↓［２］、Ｓｉ↓［３］Ｎ↓［４］、Ｔ...

本实用新型涉及一种新型反射膜，其膜系结构为：基材层／Ｎ１／Ｎ２／Ｎ１／Ａｇ／Ａｌ，其中介质层Ｎ１相对于介质层Ｎ２具有较高的折射率，反射面为前表面结构，所述基材层为ＰＥＴ薄膜或者玻璃，所述材料层Ｎ１是ＴｉＯ↓［２］、Ｓｉ↓［３］Ｎ↓［４］...

本发明公开了一种耐高温的隔热盒，包括外盒和内盒，在外盒和内盒之间填充有长绒玻璃纤维，在内盒的表面具有一层红外反射膜。本发明还公开了一种耐高温的温度记录仪，包括装设在内盒内的温度传感电路阵列、控制电路、微处理器、存储器、通讯接口和电池，在...

一种旋转式磁控溅射靶，包括永磁体（１）、靶材（４），其特征在于：还包括旋转机构（１２），所述旋转机构（１２）传动所述靶材（４）绕永磁体（１）旋转。

一种具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置，依顺序连接有前端过渡真空室、中频反应磁控溅射ＳｉＯ↓［２］镀膜室、气体隔离装置、ＩＴＯ镀膜室和后端过渡真空室，前、后端过渡真空室分别接有扩散泵，气体隔离装置由两个相通的隔离室、分子...

一种中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备，包括真空镀膜室、双靶、反应气体供气管道、工作气体供气管道、中频电源、压电阀控制器和压电阀，双靶装在屏蔽罩内，真空镀膜室内的反应气体供气管道位于双靶的对称中心线上，中频电源的两个输出端各接到一个靶上...

本实用新型涉及一种基片冷却装置，该基片冷却装置包括：密封的基片冷却室；用于在基板冷却室中支撑并传送基片的基片支撑架；至少一个冷却板以及对至少一个冷却板进行冷却的冷却系统；其中该至少一个冷却板和基片之间成一定间隙，基片冷却装置进一步设置有...

本实用新型涉及一种平面磁控溅射器，该平面磁控溅射器包括：基座、设置在基座上用于承托靶材的靶材承托板以及设置在靶材承托板相对靶材一侧并用于在靶材表面产生磁场的磁极装置，磁极装置包括磁体安装座和设置在磁体安装座上的磁体，其中磁体安装座包括中...

本实用新型涉及一种基片架镀膜装置，是一种用于磁控溅射镀膜生产线上的基片架镀膜装置。包括基片架、至少一个基片工作室和用于在所述基片工作室内传动所述基片架的工作室传动机构，其中，基片架镀膜装置进一步包括用于连接至少一个基片工作室的主旋转真空...

本实用新型涉及一种移动磁极式扫描溅射源，该溅射源包括：溅射源安装座；设置在溅射源安装座上的用于承托靶材的靶材承托板；设置在靶材承托板与靶材相对一侧并用于在靶材表面产生水平磁场的磁极装置以及设置在溅射源安装座上的传动装置，传动装置传动磁极...

本发明公开了一种柱状磁控溅射器，包括靶筒、弧形屏蔽罩和磁极装置，弧形屏蔽罩位于靶筒的侧面，所述磁极装置包括板状磁轭、在板状磁轭上同平面平行排列固定的一对侧面磁钢和中间磁钢、位于侧面磁钢与中间磁钢之间的中间间隔条，所述板状磁轭平行排列固定...

本发明公开了一种星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺，该生产线包括Ａ面进出片室、Ｂ面进出片室、Ａ面旋转真空室、Ｂ面旋转真空室、Ａ面第一溅射工作室、Ｂ面第一溅射工作室、中间连接室、Ａ面旋转回架装置、Ｂ面旋转回架装置；Ａ面进出片室...

一种制备ＡＲ膜的生产线，设有进出片真空室、过渡真空室、高真空室、镀膜真空室、折返前过渡真空室、折返真空室和设置在真空室内的基片架进、出片传送装置，其中在进出片真空室有进出片旋转门阀，在进出片真空室与过渡真空室之间、高真空室与镀膜室之间分...