本发明公开了一种曝光装置，包括掩膜台，位于掩膜台上的掩膜版，所述掩膜版上绘制有若干个曝光图形，所述掩膜版上方于曝光图形的对应位置分别设置有曝光光源，所述掩膜台下方设置有固定载台和位于固定载台上的基材，所述基材的尺寸与掩膜版的尺寸相当，所...

本发明公开了一种光刻机滤光片的中心波长优化方法，步骤如下：a、将所述滤光片安装在角度调节装置上；b、启动所述角度调节装置，使滤光片旋转一个角度。本发明通过改变窄带滤光片在光刻机中摆放的角度，可以改变中心波长达到6nm，只要出厂的时候，提...

本发明公开了一种偏振无关宽带反射光栅，包括基底，基底上依次设置有金属层，第一薄膜层和第二薄膜层，所述第二薄膜层上刻蚀有矩形光栅，所述矩形光栅包括外层光栅、中间层光栅和内层光栅，所述光栅周期为1‑1.18μm，所述刻蚀深度为1.12‑1....

本发明公开了一种掩埋金属型宽带反射光栅，包括衬底，所述衬底上设置有铝膜，所述铝膜上刻蚀有矩形光栅脊，所述矩形光栅脊间及光栅顶部设置有二氧化硅薄膜；本发明的掩埋金属型宽带反射光栅，结构简单，性能稳定，机械强度好，角度带宽宽，衍射效率高，成...

本实用新型公开了一种集成准直微透镜阵列和二维光纤阵列的光学元件，包括基板，基板一面刻蚀有呈阵列排布的插芯，插芯内插装有光纤，光纤延伸至插芯端头，光纤与插芯固定密封，基板另一面刻蚀有呈阵列排布的准直微透镜，所述准直微透镜均位于插芯端头，所...

本实用新型公开了一种真空旋涂设备，包括腔体，位于腔体外壁上的门体，所述腔体与抽真空设备连接，所述腔体内设置有旋转部件和位于旋转部件上的静电吸附工作台，所述静电吸附工作台用于放置待旋涂部件，所述腔体顶部设置有喷嘴，用于喷出液体于待旋涂部件...

本实用新型公开了一种晶圆结构，包括玻璃晶圆、覆于玻璃晶圆上的金属膜层，位于金属膜层上的有机薄膜层；本实用新型的晶圆结构在晶圆背面依次设置有金属膜层和有机薄膜层，厚度增加，韧性增强，不透明，可被半导体设备上的红外和红光探测器识别；设置的金...

本实用新型公开了一种用于湿法腐蚀晶片的装置，包括加热器，位于加热器上方的容器，所述容器底端设置有垫片，所述垫片上设置有石英缸本体和盖合在石英缸本体上方的第一盖体，第一盖体上设置有排气孔，所述石英缸本体通过排气孔设置有第一温度计，石英缸本...