本发明提供了一种石英晶体镀膜厚度控制方法，根据镀膜前的石英晶体起始振荡频率和镀膜后的石英晶体振荡频率计算镀膜厚度；其特征在于，减少因石英晶体片温度升高而使石英晶体振荡频率升高所引起的厚度测量误差。本发明中的石英晶体镀膜装置，操作方便，工...

一种分立式晶控膜厚控制装置，涉及真空镀膜技术领域，所解决的是提高膜厚控制精度的技术问题。该装置包括晶振探头、主机、从机，所述从机内设有用于测量石英晶片谐振频率的晶振频率测量电路，所述主机内设有用于控制镀膜速率的膜速控制电路；所述晶振频率...

一种晶控仪的晶振片阻力损耗测量电路及其测量方法，涉及晶控仪技术领域，所解决的是测量晶振片阻力损耗的技术问题。该电路利用微处理器控制正弦信号发生器向待测晶振片输出正弦波测试信号，通过微处理器测量出待测晶振片在不同频率正弦波测试信号下的振荡...

一种分立式晶控膜厚控制装置，涉及真空镀膜技术领域，所解决的是提高膜厚控制精度的技术问题。该装置包括晶振探头、主机、从机，所述从机内设有用于测量石英晶片谐振频率的晶振频率测量电路，所述主机内设有用于控制镀膜速率的膜速控制电路；所述晶振频率...