本发明公开了一种热电偶测温总成，其基本构成包括：热电偶体，一端为工作端，另一端为冷端；补偿导线，该补偿导线的一端与所述冷端连接；温度表，与所述补偿导线的另一端连接；以及恒温仓，将所述冷端及补偿导线与冷端连接的连接部分容置其中。依据本发明...

本发明公开了一种防沉积炉盖和立式工艺炉，其中防沉积炉盖，用作立式工艺炉的炉盖，所述防沉积炉盖包括盖体和内置于盖体内的电致加热元件，以及安装在盖体上的测温器件，以闭环的控制炉盖上端面位于炉口处的温度。依据本发明的防沉积炉盖不容易在炉盖的上...

本发明公开了一种坩埚托支撑轴装置，包括：支架，设有竖直方向的第一导向部件；上滑座，导引于所述第一导向部件，且上滑座设有座孔；转盘，通过轴承安装在所述座孔，并具有中心孔；支撑轴，用于支撑坩埚托；下滑座，导引于所述第一导向部件，所述支撑轴的...

本发明公开了一种坩埚托支撑轴导向装置，其基本结构包括：盘体，设置在预定的腔室内，该盘体开有用作座孔的中心孔，该盘体在相应腔室内固定设置或者上下活动设置；转座，通过轴承安装在所述座孔内，且转座具有配合孔；支撑轴，导引于所述配合孔或与所述配...

本发明公开了一种超高真空高温工况下样品传递系统，包括：进样腔；进样平台组件；工艺腔；工艺平台组件；隔离阀；第一升降装置；第二升降装置；以及直动操作杆。依据本发明的超高真空高温工况下样品传递系统转移样品相对平顺，从而可靠性相对较好。

本发明公开了一种密封结构及异形石英管装置，其中密封结构应用于卧式HVPE设备中石英管所使用的衬底托轴的密封，且包括：上静套管，固定在卧式的石英管下侧壁预定位置所开的底孔的上端；下静套管，对位固定在底孔的下端，该下静套管和所述上静套管及底...

本发明公开了一种红外测温工艺炉，包括一变焦装置；该变焦装置包括：保持架，具有座孔，该座孔与相应测温孔对位，且座孔内具有一环槽；保持架还开有从侧壁介入到环槽的过孔；变焦镜片，具有环形的骨架和圆形的两片膜衣，而形成液腔，该液腔内填充有透明液...

本技术公开了一种尾气液冷装置，包括：筒体，具有第一端法兰和与第一端法兰相对的第二端法兰；第一端封头；第二端封头；第一冷却组件，位于筒体内并安装在第一端封头上，第一冷却组件的第一配管组通过第一端封头上所设的第一过孔穿出；以及第二冷却组件，...

本发明公开了一种匀气装置和半导体工艺设备，其中匀气装置包括：基板；第一径向匀气盘，为安装在所述基板上的圆桶状的腔体，第一径向匀气盘的第一侧壁分布有第一匀气孔，且该第一径向匀气盘接有进气管；第二径向匀气盘，为罩在第一径向匀气盘外的圆桶状的...

本发明公开了一种流化床化学气相沉积设备，包括：炉管，该炉管的上端通过上封盖封接，下端使用下封盖封接，炉管上部一侧具有投料孔，下端一侧连接有工艺气体进气管；投料仓，连接于所述投料孔；滤风网板，位于炉管内腔下部，并位于工艺气体进气管的上方，...

本发明公开了一种半导体工艺用缓冲间，包括：框架，具有前门框和后门框；前门组件，适配于前门框，且通过前横移组件安装在所述框架上，而具有前横移自由度；后门组件，适配于后门框，且通过后横移组件安装在所述框架上，而具有后横移自由度；前横移驱动机...

本发明公开了一种垂直型MOCVD匀气装置，包括：封盖法兰，具有中心孔；内管，与中心孔孔壁间形成过流间隙，内管相应提供内流道；套管，套在内管外，与内管间形成与所述过流间隙连通的外流道；MO源管接头，连接于所述内管；第一工艺气体管接头，连接...

本发明公开了一种石墨硬毡和在半导体制造工艺中的应用，其中石墨硬毡包括在轴向依次能够以止口方式连接的多个节段，以用于根据毛坯材料堆放高度选配给定的节段。依据本发明的石墨硬毡对毛坯材料堆放高度适应性相对比较好。

本发明公开了一种等离子尾气处理装置，包括：燃烧筒，该燃烧筒具有上法兰和下法兰；上端盖，通过上法兰安装在燃烧筒上端；该上端盖具有上中心孔；尾气进气管，通过上中心孔接入燃烧筒，以向下导入尾气；等离子火焰喷头组件，该等离子火焰喷头组件具有圆盘...

本发明公开了一种垂直式炉管，包括：炉体，为上端封接下端为炉口的立式保温桶体，并设有加热器；隔热片组，为平行设置的多组隔热片，相邻隔热片通过连接体连接；隔热片与炉体的轴向垂直并在炉体的轴向排列，且部分隔热片位于炉体内；隔热片分为热辐射隔热...

本技术公开了一种碳化硅生长炉保温模块取放装置，包括：底盘；立柱，竖直地固定在底盘上；第一升降装置，配置在所述立柱上；组装平台，位于立柱一侧并由所述第一升降装置驱动；横梁，水平地安装在立柱的上端；以及第二升降装置，安装在所述横梁上，并向下...

本发明公开了一种风冷装置和梯度下降炉，其中风冷装置包括：风冷筒，套装在梯度下降炉炉管位于梯度区的梯度炉管段上；散热片，环形阵列在风冷筒上，而在相邻散热片间形成上行风槽，并形成环形阵列总成；围罩，套装在环形阵列总成上而与上行风槽配合构建上...

本发明公开了一种含氢尾气处理装置和方法，其中含氢尾气处理装置，包括：壳体，具有反应腔；尾气进气管，用于导入含氢尾气；空气进气管；加热装置；测温装置，用于测量反应腔内预定的反应区的温度；以及控制单元，接入所述测温装置，并输出控制加热装置，...

本发明公开了一种排气装置及立式湿氧炉工艺腔室，其中排气装置包括：排气前管，从相应的工艺腔室接出，并具有向下延伸的第一部分；排气后管，与所述排气前管连通，并具有向上延伸的第二部分；连接座，用于第一部分和第二部分间在下端连通；排水装置，自连...

本实用新型公开了一种可燃废气、尾气燃烧炉，用于半导体制程所产生废气、尾气的燃烧处理，所述燃烧炉包括：主体，该主体包括外壳，外壳围合成的空间下端封接，上端设有排放口；所述空间的中上部构成燃烧室；进气管接头，从侧面安装于所述主体，以向燃烧室...