三M创新有限公司专利技术

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  • 本发明公开了一种从源自含氟聚合物的制备的水相中去除氟化化合物的方法,所述方法包括使用多阳离子聚合物。
  • 本发明公开的液晶盒制品包括设置在第一聚合物型基底和第二聚合物型基底之间的液晶材料层。第一聚合物型基底包括:多条第一平行导电线路,其沿第一方向延伸并设置在液晶材料层和第一基底之间;和第一隔离衬片,其设置在第一聚合物型基底上。第二聚合物型基...
  • 本发明公开了一种用于提供具有无光泽涂饰的膜的系统和方法。所述系统包括:用于提供涂布基底的装置,所述涂布基底包括施用至基底的第一可涂布材料,所述可涂布材料形成所述涂布基底的第一主表面;用于将所述第一可涂布材料的粘度从第一粘度变为第二粘度的...
  • 本发明公开了一种图案化基底的方法,所述方法包括:在基底上以预定图案施加具有可电离取代基的有机组合物;和在所述可电离取代基和离子物种之间进行离子交换。
  • 本发明涉及含有聚二有机硅氧烷-聚酰胺的材料和有机聚合物的混合物。
  • 本发明描述了包含乙二酰胺酯基的环状硅氮烷以及制备这些化合物的方法。所述化合物可用于制备例如乙二酰胺酯基封端的硅氧烷,所述硅氧烷可为制备例如聚二有机硅氧烷聚乙二酰胺的各种聚合物材料的前体。
  • 本发明提供了具有有机软链段的聚二有机硅氧烷-聚酰胺嵌段共聚物和制备所述共聚物的方法。
  • 一种能够测量以常规制造速度移动的幅材上的雾度和透明度的设备。该设备使用积分球和新型反射镜布置。利用这种布置,本发明可利用在实时转换所需要的测量范围上使用已知样品生成的校准曲线,以及测量广角散射信号和小角度散射信号的两个光电探测器的响应,...
  • 本发明涉及用于在聚合物基底上制作电子器件的设备及方法,用于在位置方面把聚合物基底约束在台板上,并且把被约束的聚合物基底加热到至少为聚合物基底的玻璃化转变温度。把热处理型油墨涂敷到被约束的聚合物基底上,从而在其上形成电子器件层的至少一部分。
  • 本发明公开了模制呼吸器及其制备方法,其中模制呼吸器由包含熔喷纤维和短纤维的多孔非织造网制成。熔喷纤维可以作为微纤维和中纤维的双峰式混合物存在,并且包含在其中与短纤维进一步相互缠结的相互缠结的混合物。模制呼吸器也可以包含至少一个二次过滤层。
  • 本发明提供了带支链聚二有机硅氧烷-聚酰胺嵌段共聚物和所述共聚物的制备方法。所述制备共聚物的方法涉及使一种或多种胺化合物,包括至少一种聚胺在内,与具有至少一个聚二有机硅氧烷链段和至少两个酯基团的前体反应。
  • 本发明描述了一种用于在基底上形成包括全内反射棱镜的位移刻度尺的方法和系统。用于形成所述位移刻度尺的系统包括一个或多个具有负突起形式的全内反射(TIR)棱镜特征物图案的辊。当所述辊旋转时,所述刻度尺在所述基底上形成。所述辊还可以包括负突起...
  • 本发明公开了一种用于指示柔性幅材的位移的方法和系统。细长、柔性幅材包括具有被构造用于调节导向所述幅材的能量的刻度部件的一体化刻度。输送装置提供所述幅材相对于传感器的相对移动。所述传感器检测由所述刻度部件调节的能量并且基于所述调节的能量产...
  • 用于制备独立的玻璃陶瓷膜的方法,包括以下步骤:在约50℃或更低温度下混合具有约4或更低ph值的胶态二氧化硅溶胶、含锆的化合物、粘结剂、以及能够交联所述粘结剂的交联剂以制备混合液体;将所述混合液体涂覆至基底上;干燥所涂覆的混合液体以在所述...
  • 载体幅材(34)上的注模部件位于半模(18,20)之间。通过将超声能施加到模具腔体上以帮助聚合物熔体流入模具。在模制操作之后,半模分离,并推动或者引导载体幅材到下一个位置以用于另一个模制序列。模制设备包括移动模具表面(20),该表面能够...
  • 本发明公开了多孔的非织造网及其制备方法,其中该网包含熔喷纤维和短纤维。该熔喷纤维可以作为微纤维和中纤维的双峰式混合物存在,并且包含在其中与短纤维进一步相互缠结的相互缠结的混合物。
  • 本发明描述了一种粘合剂组合物,所述粘合剂组合物包含含有(甲基)丙烯酸酯共聚物、和氮丙啶基硅烷以及任选的二氧化硅粒子组分的乳液聚合物。氮丙啶基硅烷的添加导致剪切特性显著提高,尤其是在高温下。
  • 本发明描述了使用包括TIR刻度特征物的刻度尺用于确定基底位移的方法和系统。包括作为刻度尺元件的多个全内反射(TIR)棱镜的刻度尺被设置在基底上。被导向刻度尺的光由TIR棱镜调制。根据已调制光产生指示基底的位移的信号。信号可以用于确定幅材...
  • 本发明涉及具有多种颜色、暗度或亮度、易于粘附和剥离并且具有良好粘附力和外观的彩色粘合剂。所述丙烯酸类树脂彩色粘合剂包含含羧基的(甲基)丙烯酸类聚合物、无机填料(如颜料或染料)以及不含芳族乙烯基单体的含氨基的(甲基)丙烯酸类聚合物。
  • 本发明描述了一种含氟氨基甲酸酯化合物和由其衍生的涂料组合物。所述化合物和组合物可用于处理基底,特别是处理具有硬质表面的基底,例如陶瓷或玻璃,从而使它们具备亲水性、疏油性并易于清洁。