R维姆伯格弗里德尔专利技术

R维姆伯格弗里德尔共有1项专利

  • 一种用于产生流体样品薄层以供分析的设备,该设备具有分析腔室(45)的二维阵列和耦接到该阵列以能并行填充分析腔室的进入通道(25)的分支图案。分析腔室为平面的,且具有小于进入通道高度的高度以便在填充流体样品时产生薄层。该阵列能在给定面积中...
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