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瑞柯戴堤化学制药公司专利技术
瑞柯戴堤化学制药公司共有1项专利
杂二环化合物制造技术
杂原子X优选为氧原子,但也可以是其他原子或基团;基团W优选为羰基,但也可以是其他基团;杂环优选为4-氧代-4H-1-苯并吡喃环。该化合物的R↓[2]、R↓[3]、R↓[6]和R↓[7]、取代基可以在很宽的范围内选择。Y是连接基,包括-C...
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