本发明是实现写屏障命令并为主机提供指定其他写命令为敏感于或不敏感于写屏障命令的存在的装置的存储设备。所述设备可以通过改变不敏感于写屏障命令的写命令的执行顺序来优化命令的执行。在本发明的实施例中，与写命令相关联的标志指示命令敏感于或不敏感...

提供用于解决用于向工人提供关于在生长场所中已经完成了处理的装置在哪里的特定指令的位置指示问题以及向工人提供关于何时进行在测试完成之后的操作的设置的指令的设置开始时间指定问题的方法和系统。提供了用于掌握生产场所中的装置（１０３）的处理进展...

本发明涉及光刻方法及掩模装置。一种用于在器件上生成多个字符的光刻方法使用包括多个光刻掩模的掩模组，其中每个掩模包括围绕非不透明掩模字符区域的至少一个非不透明掩模字符场区域。顺序利用掩模通过掩模组使光致抗蚀剂曝光于辐射能量密度，从而生成光...

本发明提供一种纳米压印系统，包括图案化介质接触结构从而提供盘基板上目标压印区域上均匀的压印压力。该系统通过引入膜悬挂物、凝胶垫缓冲、以及气垫加载来利用盘基板的内径孔特性。该设计显著增大目标压印区域上的压力的均匀性。结果，实现了压印在记录...

本发明提供一种用于将压模从图案化基板分离的方法和装置。该方法包括：提供基板，其具有顶和底，其中有开口；提供配置来保持该基板的支承机构；提供具有形成的图案且配置为与所述基板的顶接触的压模，其中当该压模与该基板接触时腔形成在该基板的开口内；...

本发明提供一种纳米压印配置，包括ＵＶ光漫射器，其使准直ＵＶ光束随机化从而减弱来自位于ＵＶ光学路径中的缺陷物的遮蔽效应。另外，组合中心圆垫和外环形垫形成两个垫片之间的环形“非接触”区域。设计两个垫组合的尺寸和形状从而避免该盘基板上图案化压...

本发明公开了一种制造高分辨率纳米压印母版的方法。该方法将曝光并显影的正电子束抗蚀剂的负特征反转为纳米压印母版的构图的硅氮化物层中的正特征。第一耐氧化的掩模层用来构图沉积在硅氮化物层上的ＤＬＣ层。构成ＤＬＣ层之后，ＤＬＣ层的负特征被填充以...

一种使用原子力显微镜确定样品的界面信息和关键尺寸的方法。在关键尺寸信息处理之前，对扫描线执行末端－样本去卷积。在多条扫描线上寻求每条扫描线的局部最大值和最小值或者局部斜度改变。然后为多个最大值和最小值或者斜度改变点寻求最佳拟合线。可以使...

在试验箱设备中，应保持放置测试对象装置的减压空间的密封能力和精确地控制减压空间中的气压。在本发明的优选实施例中，减压空间（２０２）和空间（２０４）被连接板（２０５）分开。连接板（２０５）在测试计算机（３００ａ）和ＨＤＤ（１００ａ）之间传...

本发明提供一种用于硬盘驱动器的盘和测量表面光洁度的方法。该方法包括：ａ提供具有表面的盘，该表面具有峰和谷的形貌；ｂ形成至少一部分所述形貌的相反复制品；以及ｃ测量所述相反复制品以得到所述盘的表面的形貌尺寸。

本发明提供一种改进流体动力学轴承中的润滑的系统和方法。形成包括转子部分和定子部分的流体动力学轴承。此外，在该流体动力学轴承的转子部分和定子部分之间提供包括高压润滑剂的润滑流体，其中该高压润滑剂提供对该流体动力学轴承的转子部分和定子部分的...

一种双室淀积系统包括两个离子束溅射（ＩＢＳ）淀积室，它们通过晶片装卸室连接，用于以提高的工艺生产率淀积多层薄膜结构。可以在隔离的ＩＢＳ淀积室中，在衬底上进行反应离子束溅射淀积和金属层淀积，同时保持整个工艺的真空条件。具有ＡＦＭ层的自旋阀...

用于计算机盘驱动器的一种方法和产品。提供了玻璃基片，在其表面上有低含量的残余抛光颗粒。一个方法实施例包括：通过将玻璃基片浸入含有硝酸、过氧化氢以及含有羧酸基团的有机酸的酸浴中来减少残留抛光颗粒含量。

用在盘驱动器数据存储设备中的玻璃或陶瓷盘的周向边缘优选地通过塑性磨削被精整，以产生一基本无裂痕的表面，该表面是未经化学加强的。优选地，材料为玻璃，盘的内边缘和外边缘都经过精整。边缘精整优选地按两步的工艺完成，包括粗磨和塑性磨削，采用用于...

提供一种用于从浮动块焊盘去除无铅焊料的方法，以允许回收利用磁盘驱动器中使用的磁头／浮动块。通过无铅焊料带（２３７）将磁头／浮动块（１０３）上形成的浮动块焊盘和导线焊盘（２３５）互相连接。预先将切削工具（３０９）加热到无铅焊料的熔点附近的...