日本磁性技术株式会社专利技术

日本磁性技术株式会社共有10项专利

  • 本发明的目的在于提供使利用转动等离子体进行的等离子体处理稳定且可以控制、并可以提高等离子体处理质量的等离子体流生成方法、等离子体处理方法、等离子体发生装置和使用它的等离子体处理装置。4个象限(Z1~Z4)中的各频率被设定为7、15、6、...
  • 本发明的目的在于防止形成在等离子处理装置中的小滴捕集用的环状肋上的、由等离子流产生的堆积物落下到等离子发生部而引起短路。将小滴捕集用的环状肋分割成多个肋片,从而实现由等离子流的物质的凝集形成在上述环状肋上的堆积物的、在形成最初阶段的细化...
  • 本发明的目的在于提供一种阳极壁多分割型等离子发生装置及使用该阳极壁多分割型等离子发生装置的等离子处理装置,该阳极壁多分割型等离子发生装置能够防止由扩散等离子在阳极内壁上附着、堆积而形成了的堆积物剥落而导致阴极与阳极间短路。在阴极(2)与...
  • 在包括等离子体发生部、等离子体输送管和等离子体处理部的等离子体处理装置中,在等离子体输送管的始端侧与终端侧之间插装绝缘体以及绝缘体,构成使等离子体输送管与等离子体发生部和等离子体处理部电气地独立的绝缘体插装型等离子体处理装置。将等离子体...
  • 本发明的目的是提供一种有效率地除去混入到等离子体中的微 滴,而且能够简单并且廉价地构成微滴除去部,可望由高纯度等离子 体提高成膜等的表面处理精度的等离子体生成装置。在等离子体行进 路(5)中配置用来除去在产生等离子体时从阴极(4)副生的...
  • 本发明的目的在于提供能够独立地调整2个靶的位置的靶交换式等离子发生装置。在本发明的靶交换式等离子发生装置中,设在由真空电弧放电发生等离子的等离子发生装置的靶交换机构(6)包含由主马达(M)进行半旋转驱动的主保持架(32),设置在它们的直...
  • 本发明的目的是提供一种能够更有效地除去混入到等离子中的微滴,能够谋求由高纯度等离子进行的成膜等的表面处理精度的提高的等离子生成装置及使用了它的等离子处理装置。在本发明中,设置在等离子行进路上的微滴除去部,由与等离子发生部(A)连接的等离...
  • 本发明提供一种等离子体生成装置,其在等离子管中,可以不减退通过真空电弧放电产生的等离子体的有效量地有效去除混入等离子体的微滴,而且可以简单并廉价地构成微滴去除部,可谋求用高纯度等离子体提高成膜等表面处理的精度。等离子管阴极(407)的外...
  • 能将阴极电弧等离子体的起动、维持、停止等系列操作长时间反复断续进行的等离子体发生装置。本发明的成膜用等离子体发生装置配备有供给电弧等离子体构成粒子的阴极(4)和电弧等离子体的起动与保持用的触发器兼阳极(6),阴极(4)的阴极面(4a)为...
  • 能可靠地分离从电弧放电部行进的等离子体与微滴,能可靠地除去微滴。提供可防止微滴到达被处理物的等离子体生成装置中的微滴除去装置。形成等离子体(P)与微滴(D)在混合状态下行进的筒状行进路(3),在筒状行进路(3)内设置了1个以上的在偏心位...
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