衢州予正科技有限公司专利技术

衢州予正科技有限公司共有2项专利

  • 本技术公开了一种工件测量装置,包括面光源、遮光板、双远心镜头;遮光板上设置有通光孔,通光孔的尺寸略大于工件的外廓尺寸。本技术成本低廉;采用普通面光源加遮光板的组合,取代传统昂贵的平行光源或准直透镜系统,极大降低了光学测量装置的成本。本申...
  • 本申请公开了一种高性能点云距离采样仿真方法,属于点云仿真技术领域,本申请通过引入线性深度测试的方法,对游戏引擎的图形处理流程进行修改,实现对摄像机可视范围内物体距离的高性能检测,通过线性深度测试,本申请充分利用了GPU在渲染时的深度测试...
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